1.一种化合物替格瑞洛的合成方法，其特征在于，先将化合物(2)和化合物(3)经取代反应制得化合物(4)；所述化合物(4)经还原反应制得化合物(5)；化合物(5)经氯化反应制得化合物(6)；化合物(6)和化合物(7)经取代反应制得化合物(8)；最后化合物(8)经羟基脱保护反应得到替格瑞洛(1)，其反应式如下所示：

2.根据权利要求1所述的化合物替格瑞洛的合成方法，其特征在于，所述化合物(4)与碱试剂发生还原反应制得化合物(5)。

3.根据权利要求2所述的化合物替格瑞洛的合成方法，其特征在于，所述碱试剂选自氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸钠、碳酸钾、氢化锂铝和DIBAL中的一种或几种。

4.根据权利要求1-3任一所述的化合物替格瑞洛的合成方法，其特征在于，所述化合物(4)还原反应制得化合物(5)的反应溶剂选自甲醇、乙醇、异丙醇、水、叔丁醇、THF、乙醚、甲苯、二甲苯、二氯甲烷、2-甲基四氢呋喃、DMSO、DMA、DMF和TBME中的一种或几种。

5.根据权利要求1-3任一所述的化合物替格瑞洛的合成方法，其特征在于，所述化合物(4)还原反应制得化合物(5)的温度为-80℃～20℃。

6.根据权利要求1所述的化合物替格瑞洛的合成方法，其特征在于，所述氯化反应的氯化试剂选自SOCl2、PCl3、PCl5和NCS中的一种或几种。

7.根据权利要求1所述的化合物替格瑞洛的合成方法，其特征在于，所述氯化反应的反应溶剂选自无水THF、无水乙醚、无水甲苯、无水二甲苯、无水二氯甲烷无水、2-甲基四氢呋喃、无水DMSO、无水DMA、无水DMF和无水TBME中的一种或几种。

8.根据权利要求1所述的化合物替格瑞洛的合成方法，其特征在于，所述氯化反应的反应温度为0℃～100℃。

9.根据权利要求1所述的化合物替格瑞洛的合成方法，其特征在于，所述化合物(6)和化合物(7)经取代反应制得化合物(8)中所用碱选自叔丁醇钠、叔丁醇钾、钠氢,NaHMDS、KHMDS和LiHMDS中的一种或几种；所述取代反应的反应溶剂选自THF、乙醚、甲苯、二甲苯、二氯甲烷、2-甲基四氢呋喃、DMSO、DMA、DMF和TBME中的一种或几种；所述取代反应的反应温度为0℃～60℃。

10.一种如权利要求1所述的化合物替格瑞洛的合成方法中所合成的替格瑞洛中间体化合物(4)、化合物(5)和化合物(6)，其结构式分别为：