1.一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述制作方法包括以下步骤：步骤1：制备好包含N组一维二元衍射光学结构的柔性变角度阵列衍射光学器件掩模版备用；

步骤2：选择硅片作为基底材料，并进行清洗；

步骤3：在经过步骤2的清洁硅片上涂敷一层光刻胶，并进行加热固化作为牺牲层，所述作为牺牲层的光刻胶及其配套去胶剂，必须不与光敏聚酰亚胺光刻胶产生互溶或化学反应；

步骤4：光敏聚酰亚胺光刻胶胶液配制，取光敏聚酰亚胺光刻胶，加入混合增感剂和二次精制处理干燥的感光树脂，进行磁力搅拌，然后密封避光冷置备用；

步骤5：在步骤3的牺牲层上涂敷步骤4准备的光敏聚酰亚胺光刻胶，对涂敷好的光敏聚酰亚胺光刻胶进行前烘，使用步骤1的掩模版进行曝光，再进行显影和后烘固化，形成光敏聚酰亚胺光刻胶衍射图形；

步骤6：使用作为牺牲层的光刻胶的配套去胶剂，去除牺牲层以及位于其下的硅片，制成柔性变角度阵列衍射光学器件。

2.如权利要求1所述的一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述步骤5中，涂敷厚度在10微米至30微米之间，曝光深度控制在350纳米至380纳米之间。

3.如权利要求1所述的一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述柔性变角度阵列衍射光学器件制作在光敏聚酰亚胺材料上，由N组一维二元衍射光学结构首尾连接而成，所述一维二元衍射光学结构包括光栅结构和光学微结构，所述一维是指衍射光学结构为一维图案，所述二元是指因衍射光学结构深度所形成的光程差是二值化的。

4.如权利要求3所述的一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述一维二元衍射光学结构图案由参数T表示，所述参数T为光学微结构的最小单元宽度，所有光学微结构的宽度均用T的整数倍来表示，所述一维二元衍射光学结构图案的总宽度用T0表示；所述一维二元衍射光学结构的深度为h，所述一维二元衍射光学结构与X轴所夹倾角为θ0。

5.如权利要求3所述的一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述光学微结构为基于伪随机序列的光学微结构、基于M序列的光学微结构或基于Barker码的光学微结构。

6.如权利要求3～5之一所述的一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述N是正整数，表示柔性变角度阵列衍射光学器件中所包含的阵列个数，N＝1,2,3…∞，当N＝1时，所述用于激光散斑抑制的柔性变角度阵列衍射光学器件为单个衍射光学器件，即衍射光学器件单元，每一个衍射光学器件单元中包括m个周期的结构参数相同的一维二元衍射光学结构图案；当N≧2时，所述用于激光散斑抑制的柔性变角度阵列衍射光学器件为包含N个阵列的衍射光学器件；所述阵列中的N个衍射光学器件单元一次性制作在单片柔性材料上，其阵列中的N个衍射光学器件单元内部的一维二元衍射光学结构图案相同或不相同，所述N组一维二元衍射光学结构首尾连接，沿着Y轴方向将第1组衍射光学结构的头与第N组衍射光学结构的尾相连。

7.如权利要求6所述的一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：阵列中的N个衍射光学器件单元与X轴所夹倾角不同，表示为θ±i，其中θ±i＝θ0±(N-1)/2·Δθ±i·Δθ，Δθ表示相邻衍射光学器件单元与X轴所夹倾角的变化幅度。

8.如权利要求3～5之一所述的一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：二元衍射光学结构的深度h与柔性材料的折射率有关，其范围在

350nm至380nm。