1.一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：步骤1：制备好包含N组一维二元衍射光学结构的柔性变角度阵列衍射光学器件掩模版备用；

步骤2：选择硅片作为基底材料，并进行清洗；

步骤3：在经过步骤2的清洁硅片上涂敷光刻胶，所述光刻胶必须是与聚二甲基硅氧烷PDMS不会产生化学反应、不会互溶、且易于与其分离的光刻胶类型，对涂敷好的光刻胶进行前烘，使用步骤1的掩模版进行曝光，再进行显影和后烘固化，形成光刻胶衍射图形；

步骤4：采用干法刻蚀设备，对步骤3的光刻胶图形进行表面粗糙化处理；

步骤5：配制液态的聚二甲基硅氧烷PDMS备用，所述液态的聚二甲基硅氧烷为黏稠液体，是一种具有不同聚合度链状结构的有机硅氧烷混合物，为无色、无味、无毒、不易挥发的液体；

步骤6：将步骤5的液态聚二甲基硅氧烷PDMS滴入步骤4的光刻胶结构，一边滴入一边加热固化，滴入的液态聚二甲基硅氧烷PDMS材料要完全覆盖光刻胶结构；

步骤7：经步骤6之后，光刻胶结构图形转移到聚二甲基硅氧烷PDMS材料上并形成固态，固态的聚二甲基硅氧烷PDMS材料称为硅胶，是无毒、疏水性的惰性物质，且为非易燃性、低杨氏模量的结构高弹性透明体；

步骤8：将固化后的聚二甲基硅氧烷PDMS材料从光刻胶结构上剥离，制成柔性变角度阵列衍射光学器件，所述柔性变角度阵列衍射光学器件由N个阵列排布的衍射光学器件单元组成，每个衍射光学器件单元包括一组所述一维二元衍射光学结构，N是正整数，N≧2，所述变角度是指阵列中的N个衍射光学器件单元都与X轴所夹倾角不同，该倾角即为衍射光学器件单元所包括的一维二元衍射光学结构与X轴所夹倾角，其中，X轴是沿着上述阵列排布方向的轴。

2.如权利要求1所述的一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述步骤3中，光刻胶的涂敷厚度在480纳米至520纳米之间。

3.如权利要求1或2所述的一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述步骤6中，控制固化后的聚二甲基硅氧烷PDMS高出光刻胶结构的厚度在0.1毫米至2.5毫米之间，所述固化温度在70度至90度范围，固化时间在50分钟至70分钟。

4.如权利要求1或2所述的一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述柔性变角度阵列衍射光学器件制作在聚二甲基硅氧烷PDMS材料上，由N组一维二元衍射光学结构首尾连接而成，所述一维二元衍射光学结构包括光栅结构和光学微结构，所述一维是指衍射光学结构为一维图案，所述二元是指因衍射光学结构深度所形成的光程差是二值化的。

5.如权利要求4所述的一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述光学微结构为基于伪随机序列的光学微结构、基于M序列的光学微结构或基于Barker码的光学微结构。

6.如权利要求4所述的一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述一维二元衍射光学结构的深度h与柔性材料的折射率有关，其范围在480nm至

520nm。