1.一种原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：

步骤1，配制溶胶：依次将苯酰丙酮、铟的无机盐添加到乙醇中，在50℃～60℃的油浴中搅拌1小时，冷却至室温后，继续添加锡的氯化盐和乙酸酐，室温搅拌2小时，最后加入聚乙二醇，搅拌均匀后得到ITO溶胶；

步骤2，制备凝胶膜：将由步骤1制备得到的ITO溶胶均匀涂敷于钠钙玻璃基板上，形成凝胶膜；

步骤3，凝胶膜热处理：将由步骤2制备得到的凝胶膜放入热处理炉中于450℃～550℃下保温2小时，空冷至室温得到原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜；

步骤1中，配制溶胶所用原料的配比如下：铟的无机盐、锡的氯化盐、乙醇、苯酰丙酮、乙酸酐及聚乙二醇的摩尔比为1：0.075～0.15：50～55：7～7.5：1.5～2：0.3～0.35。

2.根据权利要求1所述的一种原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜的制备方法，其特征在于，步骤1中，所述铟的无机盐为硝酸铟或氯化铟；所述锡的氯化盐为四氯化锡或二氯化锡。

3.根据权利要求1所述的一种原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜的制备方法，其特征在于，步骤1中，配制溶胶时的环境中的相对湿度值为30％～100％。

4.根据权利要求1所述的一种原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜的制备方法，其特征在于，步骤2中，采用浸渍提拉技术将由步骤1制备得到的ITO溶胶均匀涂敷于钠钙玻璃基板上；浸渍提拉技术的工艺参数为：浸渍时间为1s～10s，提拉速度为0.3cm/s～1.5cm/s，空气湿度不大于40％。

5.根据权利要求1所述的一种原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜的制备方法，其特征在于，步骤2中，采用旋涂技术将由步骤1制备得到的ITO溶胶均匀涂敷于钠钙玻璃基板上；旋涂技术的工艺参数为：使用的转速为2500转/分～4000转/分，每毫升ITO溶胶所需的旋涂时间为150s～300s，空气湿度不大于40％。

6.根据权利要求1所述的一种原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜的制备方法，其特征在于，步骤3制备得到的原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜厚度为200nm～400nm。

7.根据权利要求1所述的一种原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜的制备方法，其特征在于，步骤3制备得到的原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜的晶粒尺寸为5nm～20nm。

8.根据权利要求1所述的一种原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜的制备方法，其特征在于，步骤3制备得到的原位结晶的锡掺杂氧化铟纳米晶薄膜的载流子浓度为5×1019个/cm3～3×1021个/cm3。