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专利号: 2017114210386
申请人: 西安理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 冶金;黑色或有色金属合金;合金或有色金属的处理
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.微纳米双级多孔铜的制备方法,所述微纳米双级多孔铜,以烧结多孔Cu骨架为基体,基体上形成双连续的微纳米多孔结构,其中微米孔平均孔径为2.18μm-3.68μm,纳米孔平均孔径为153nm-234nm,其特征在于,具体步骤如下:

步骤1,将一定比例的Cu粉和Zn粉混合均匀后压制成坯,置于气氛管式炉中升温至一定温度,保温一定时间后冷却至室温,获得前驱体CuZn合金;

步骤1中保温时间为4h-8h;

步骤1中Cu粉和Zn粉的摩尔比为3:7-5:5;

步骤1中保温温度范围为400℃-500℃;

步骤1中冷却方式为随炉冷却;

步骤2中盐酸溶液浓度为0.5mol/L;

步骤2,将前驱体置于盐酸溶液中脱合金至无明显气泡逸出,即制备得到微纳米双级多孔铜。

2.根据权利要求1所述的微纳米双级多孔铜的制备方法,其特征在于,步骤1中保温气氛为氩气。