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专利号: 2018101589666
申请人: 德淮半导体有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2024-03-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种刻蚀电极,其特征在于,包括:

电极主体,包括底座和位于底座上的凸起电极,所述凸起电极顶部为电极表面,所述底座与凸起电极之间具有环形凹槽;

环绕电极主体的内外套嵌设置的至少一个遮挡环,所述至少一个遮挡环位于所述环形凹槽内;

驱动器,与所述遮挡环连接,用于控制各个遮挡环在垂直电极表面的方向上进行上升和下降运动,其中,上升时,所述遮挡环向电极表面方向运动,下降时,所述遮挡环向底座方向运动。

2.根据权利要求1所述的刻蚀电极,其特征在于,位于最内圈的遮挡环的内径与凸起电极的外径相同。

3.根据权利要求1所述的刻蚀电极,其特征在于,所述遮挡环的材料为阳极氧化铝。

4.根据权利要求1所述的刻蚀电极,其特征在于,当包括两个以上遮挡环时,各个遮挡环的宽度相同。

5.根据权利要求1所述的刻蚀电极,其特征在于,所述驱动器为步进马达。

6.根据权利要求1所述的刻蚀电极,其特征在于,所述驱动器用于控制遮挡环上升运动至上升状态,所述遮挡环位于上升状态时,所述遮挡环的表面与电极表面齐平。

7.根据权利要求6所述的刻蚀电极,其特征在于,工作状态时,当一外圈遮挡环位于上升状态时,位于所述外圈遮挡环内圈的遮挡环均处于上升状态。

8.根据权利要求1所述的刻蚀电极,其特征在于,所述遮挡环为可拆卸的设置于所述凹槽内。

9.一种边缘刻蚀装置,其特征在于,包括:

两个如权利要求1至8中任一项所述的刻蚀电极,分别作为上电极和下电极;

所述上电极和下电极相对设置。

10.根据权利要求9所述的边缘刻蚀装置,其特征在于,所述上电极的遮挡环和下电极的遮挡环的运动状态相互独立控制。