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专利号: 2018101963777
申请人: 三峡大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕
更新日期:2025-03-29
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种多功能镍掺杂二硫化钼原位电极的CVD制备方法,其特征在于,具体制备方法为:(1)将镍盐和氯化钼溶于挥发非水溶剂,获得Ni-Mo前躯液;

(2)上述前躯液涂布到基底上,干燥后放在Ar+S气氛中或N2+S气氛中,CVD硫化。

2.权利要求1 所述的多功能镍掺杂二硫化钼原位电极的CVD制备方法,其特征在于,挥发非水溶剂,包括:乙醇、N, N-二甲基甲酰胺。

3.权利要求1 所述的多功能镍掺杂二硫化钼原位电极的CVD制备方法,其特征在于,氯化钼溶于挥发非水溶剂,Ni、Mo原子的浓度之和为200 900 mM,Ni与Ni+Mo的原子比为5-~

30%。

4.权利要求1 所述的多功能镍掺杂二硫化钼原位电极的CVD制备方法,其特征在于,所述的基底包括如碳布、石墨纸、铜或镍箔中的任意一种。

5.权利要求1 所述的多功能镍掺杂二硫化钼原位电极的CVD制备方法,其特征在于,所述的干燥是在空气中干燥,或于热台上70 100℃快速干燥。

~

6.权利要求1 所述的多功能镍掺杂二硫化钼原位电极的CVD制备方法,其特征在于,CVD硫化反应温度为500 800℃,反应时间为0.5 4 h。

~ ~

7.权利要求1 所述的多功能镍掺杂二硫化钼原位电极的CVD制备方法,其特征在于,Ar+S气氛或N2+S气氛中,Ar、N2为保护气体,气体流量1~10 SCCM;S气体为硫粉蒸发形成,硫粉的量远过量于钼原子。