1.一种附加纬接结双面全显色提花织物结构设计方法，其特征在于针对双面全显色双层结构，采用附加一组纬纱在双层结构之间用作接结纱，实现织物两面均具有全显色效果，主要步骤是：(1)可遮盖技术点的设计，(2)可遮盖全显色组织设计，(3)织物正反面图案设计，(4)组织替换形成正面织物结构图，(5)组织替换形成反面织物结构图，(6)附加纬接结组织设计，(7)正、反面织物结构与接结组织组合，形成附加纬接结双面全显色提花织物结构图，其中：(1)可遮盖技术点的设计

选择所需基本组织A和基本组织B，在此基础上设计对应的全显色技术点A和全显色技术点B，具体可参照发明专利“全显色织物的组织结构设计方法”，①根据全显色技术点的组织特征，设定可遮盖技术点A，方法是全显色技术点A和全显色技术点B共有经组织点的位置重合处为每一纬设计两个连续经组织点，其余全为纬组织点的组织，称之为可遮盖技术点A，②根据全显色技术点和可遮盖技术点A的组织特征，设定可遮盖技术点B，方法是在全显色技术点A和全显色技术点B共有经组织点与可遮盖技术点A的纬组织点位置重合处为每一纬设计两个连续纬组织点，其余全为经组织点的组织，称之为可遮盖技术点B，(2)可遮盖全显色组织设计将可遮盖技术点A的经组织点添加到基本组织A和基本组织B上相应的位置形成两个组织，分别称为可遮盖基本组织A和可遮盖基本组织B，将可遮盖技术点B的纬组织点添加到全显色技术点A和全显色技术点B上相应的位置形成两个组织，分别称为可遮盖全显色技术点A和可遮盖全显色技术点B，①根据基本组织和可遮盖全显色技术点的组织特征，设计用于正面织物结构设计的可遮盖全显色组织I，方法是在基本组织A的基础上，不破坏可遮盖全显色技术点A的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖基础组织I，在基本组织B的基础上，不破坏可遮盖全显色技术点B的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖配合组织I，当M＝N时，基础组织I和配合组织I的数目最小，为(N-4)个，

当M＝1时，基础组织I和配合组织I的数目最大，为(N-4)+(N-5)×(N-1)个，N表示组织循环数，M表示影光组织组织点加强数，

②根据可遮盖基本组织和全显色技术点的组织特征，设计用于反面织物结构设计的可遮盖全显色组织II，方法是在可遮盖基本组织A的基础上，不破坏全显色技术点A的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖基础组织II，在可遮盖基本组织B的基础上，不破坏全显色技术点B的情况下设计一组影光组织，称之为可遮盖配合组织II，当M＝N时，基础组织II和配合组织II的数目最小，为(N-4)个，

当M＝1时，基础组织II和配合组织II的数目最大，为(N-4)+(N-5)×(N-1)个，N表示组织循环数，M表示影光组织组织点加强数，(3)织物正反面图案设计

织物正面和反面的计算机数码图像均为位图模式，规格相同，设计完成的计算机图像为灰度模式，灰度级别不超过设计的可遮盖基础组织I、可遮盖基础组织II、可遮盖配合组织I或可遮盖配合组织II的组织数目，①将完成的织物正面偶数个计算机灰度图像左右颠倒后依次排列成A1、B1、A2、B2、……，②将完成的织物反面偶数个计算机灰度图像依次排列成C1、D1、C2、D2、……，(4)组织替换形成正面织物结构图确定灰度图像中的黑到白与可遮盖全显色组织I中的经面到纬面组织的替代关系，并保持不变，①将完成的计算机灰度图像A1、A2、……的图像灰度与可遮盖基础组织I一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZA1、ZA2、……，②将完成的计算机灰度图像B1、B2、……的图像灰度与可遮盖配合组织I一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZB1、ZB2、……，③将大组织循环图ZA1、ZB1按相同起始位置进行组合，沿纬向1∶1组合可以设计两色纬正面织物结构图，即按ZA1第一纬：ZB1第一纬依次排列；将ZA1、ZB1、ZA2和ZB2沿纬向1∶1∶1∶

1组合可以设计四色纬正面织物结构图，即按ZA1第一纬：ZB1第一纬：ZA2第一纬：ZB2第一纬依次排列，依次类推，可以设计偶数组纬的正面织物结构图。

(5)组织替换形成反面织物结构图

确定灰度图像中的黑到白与可遮盖全显色组织II中的经面到纬面组织的替代关系，并保持不变，①将完成的计算机灰度图像C1、C2、……的图像灰度与可遮盖基础组织II一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZC1、ZC2、……，②将完成的计算机灰度图像D1、D2、……的图像灰度与可遮盖配合组织II一一替换，形成各自的大循环组织图，对应称为ZD1、ZD2、……，③将大组织循环图ZC1、ZD1按相同起始位置进行组合，沿纬向1∶1组合可以设计两色纬反面织物结构图，即按ZC1第一纬：ZD1第一纬依次排列；将ZC1、ZD1、ZC2和ZD2沿纬向1∶1∶1∶

1组合可以设计四色纬反面织物结构图，即按ZC1第一纬：ZD1第一纬：ZC2第一纬：ZD2第一纬依次排列，依次类推，可以设计偶数组纬的反面织物结构图。

(6)附加纬接结组织设计

①以可遮盖技术点A为基础，设计一种接结组织，方法是将可遮盖技术点A沿经向扩大两倍，保留奇数纬上的经组织点，并且使每一经上有且只有一个经交织点，完成的接结组织具有规则组织的特征，称为附加纬接里组织，②以可遮盖技术点B为基础，设计一种接结组织，方法是将可遮盖技术点B沿经向扩大两倍，保留奇数纬上的纬组织点，并且使每一经上有且只有一个纬交织点，完成的接结组织具有规则组织的特征，称为附加纬接表组织，(7)正、反面织物结构与接结组织组合，形成附加纬接结双面全显色提花织物结构图①将正面织物结构图、全经点和附加纬接表组织沿纬向1∶1∶1排列，获得具有附加纬接表经接结组织的复合结构FJB，②将全纬点、反面织物结构图和附加纬接里组织沿纬向1∶1∶1排列，获得具有附加纬接里经接结组织的复合结构FJL，③将FJB、FJL沿经向1∶1排列，获得具有规则接结组织效果的附加纬接结双面全显色提花织物结构图。

2.根据权利要求1所述的设计方法得到的附加纬接结双面全显色提花织物结构图的生产应用，其特征在于：设定经纬密度，加上选纬信息，该织物结构图直接用于设计生产附加纬接结的双面全显色提花织物。