1.一种硅片清洗设备，包括用于盛放硅片清洗液的清洗筒，所述清洗筒内气密性配合有活塞板，所述活塞板固设有穿过清洗筒内底的活塞杆，所述活塞杆通过动力机构带动进行上下移动，所述清洗筒固设有喷嘴，其特征在于：所述清洗筒中部固设有清洗板，所述清洗板上开设有多个通孔，所述通孔内均固设有红外加热管，所述红外加热管与通孔的内壁间具有空隙，所述红外加热管的外壁上均套设有导热透明的防水套；

所述喷嘴朝向清洗筒中心一侧倾斜向下，所述清洗筒上设有多根导管，每根所述导管的一端连接在靠近清洗板底侧处的清洗筒筒壁上，每根所述导管的另一端与喷嘴可拆卸连接；

所述清洗筒筒壁连接导管处均设有挡片，所述挡片在清洗筒筒壁上形成供清洗液流入导管的溢流通道，所述活塞板开设有可供挡片插入的插孔，所述插孔内设有用于封住插孔的弹性封片，所述挡片可与弹性封片间隙配合。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于：所述活塞杆位于清洗筒外的端部上固设有齿条，所述动力机构包括安装板，所述安装板上转动连接有转盘，所述转盘上偏心固定有导柱，所述安装板上铰接有杠杆部，所述杠杆部包括扇齿板和导柄，所述扇齿板可与齿条啮合，所述导柄上开设有条形的导孔，所述导孔空套在导柱上。

3.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于：所述清洗筒的顶端处设有拍摄器，所述拍摄器用于拍摄硅片在清洗过程中的图片。

4.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于：所述导管的直径小于通孔的直径。

5.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于：所述通孔内固设有多个形成反射路径的反射板。

6.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于：所述防水套通过支条连接到通孔内壁上，所述支条均匀分布在防水套的周侧上。