1.一种单孔地下水渗流矢量监测装置，其特征在于，包括辅助结构、矢量跟踪机构、位置监测组件、装置复位机构和主控电路板，所述辅助结构支撑矢量跟踪机构、位置监测组件、装置复位机构和主控电路板，所述主控电路板连接装置复位机构和位置监测组件，所述装置复位机构连接矢量跟踪机构，所述矢量跟踪机构具有磁化特征，所述矢量跟踪机构随地下水的渗流发生水平移动，所述位置监测组件监测矢量跟踪机构的运动矢量数据，并传输给主控电路板，一次测量周期完成后，所述主控电路板通过控制装置复位机构将矢量跟踪机构复位，进行下一次测量周期。

2.根据权利要求1所述的单孔地下水渗流矢量监测装置，其特征在于，所述矢量跟踪机构为传力球，所述传力球由永磁体、泡沫和铝制圆球组成，所述永磁体和泡沫密封在铝制圆球内，所述传力球的密度接近于水的密度，所述传力球能在水中保持悬浮状态。

3.根据权利要求2所述的单孔地下水渗流矢量监测装置，其特征在于，所述的装置复位机构包括收放线机和拉线，所述拉线的一端连接收放线机，另一端连接传力球，所述收放线机能实现拉线的放松与收紧，所述拉线放松时，所述传力球能自由移动，所述拉线收紧时，所述传力球复位。

4.根据权利要求3所述的单孔地下水渗流矢量监测装置，其特征在于，所述主控电路板为单片机系统，所述收放线机连接主控电路板，且主控电路板控制收放线机进行正转动或逆转动，所述收放线机正转动，所述拉线放松，所述收放线机逆转动，所述拉线收紧至传力球复位。

5.根据权利要求4所述的单孔地下水渗流矢量监测装置，其特征在于，所述辅助结构包括底盘、过水支架、监测室、控制室和顶盖，所述控制室位于监测室的上方，所述顶盖能盖在控制室上方，所述过水支架的上端连接监测室，所述过水支架的下端连接底盘，所述主控电路板位于控制室内，所述收放线机和位置监测组件位于监测室内，所述矢量跟踪机构位于过水支架内。

6.根据权利要求5所述的单孔地下水渗流矢量监测装置，其特征在于，所述位置监测组件包括多个霍尔器件位置传感器，多个霍尔器件位置传感器沿监测室的底板圆周方向等间距设置，且均连接主控电路板，所述霍尔器件位置传感器能实现非接触测量。

7.根据权利要求5所述的单孔地下水渗流矢量监测装置，其特征在于，所述顶盖和控制室的连接处以及控制室和监测室的连接处均设有密封圈，进行防水密封，所述顶盖的中间开有一通孔，所述主控电路板连接电缆绳，所述电缆绳从通孔穿出，所述电缆绳和通孔之间通过防水密封胶进行密封。

8.根据权利要求5所述的单孔地下水渗流矢量监测装置，其特征在于，所述过水支架包括上架、下架和多个支架，多个支架在上架和下架之间沿圆周方向等间距设置，所述上架连接在监测室的底部，所述下架连接在底盘的顶部，通过过水支架使监测室和底盘的轴向位置相对固定，相邻的支架围成一过水窗。

9.根据权利要求8所述的单孔地下水渗流矢量监测装置，其特征在于，所述支架的数量为三个，共围成三个过水窗，所述过水窗的尺寸大于支架的尺寸，所述支架的尺寸以能支撑底盘为标准。

10.根据权利要求5所述的单孔地下水渗流矢量监测装置，其特征在于，所述底盘的下端呈圆弧形。