1.一种晶圆的生产方法，其特征在于：该方法包括如下步骤：

步骤一：将块状的复晶硅置于石英坩埚内，加热使其完全融化为硅熔浆；

步骤二：将步骤一中的硅熔浆温度稳定后依次进行晶棒的颈部成长、晶冠成长、晶体成长和尾部成长；

步骤三：将步骤二中的晶棒直径偏小的头、尾部裁切同时进行外径研磨；

步骤四：将步骤三中的晶棒放入切片机中进行切片，切片成晶片后研磨；

步骤五：将步骤四中的晶片放入到湿法刻蚀装置中进行蚀刻；

步骤六：将步骤五中的晶片放入到清洗装置中彻底清洗、风干；

其中，所述湿法刻蚀装置包括一号筒体(1)、二号筒体(2)和挡板(3)；所述二号筒体(2)同轴安装在一号筒体(1)内部；所述挡板(3)的数量为八个且在一号筒体(1)内部呈圆周排列，挡板(3)将一号筒体(1)分割为一号密封仓(4)、二号密封仓(5)和三号密封仓(6)，所述二号密封仓(5)一侧为一号密封仓(4)、二号密封仓(5)另一侧为三号密封仓(6)；挡板(3)上设有通孔(31)；所述一号密封仓(4)的数量为两个，一号密封仓(4)侧壁开设有一号滑槽(41)，一号密封仓(4)内部设有挡液模块(42)；所述二号密封仓(5)数量为四个，二号密封仓(5)内部固定安装刻蚀模块(51)；所述三号密封仓(6)数量为两个，三号密封仓(6)中设有一号进液口(61)；所述二号筒体(2)底部开设有排液口(21)，二号筒体(2)与一号密封仓(4)相交处侧壁开设有二号进液口(43)；

所述刻蚀模块(51)包括壳体(511)、三号导杆(512)和转动单元(513)；所述壳体(511)上设有三号进液口(518)；所述转动单元(513)通过三号导杆(512)固定安装在壳体侧壁上；

所述挡液模块(42)包括一号滑块(421)、一号导杆(422)、浮动块(423)、二号导杆(424)、一号滑动伸缩杆(425)、三号滑块(426)和球形挡块(427)；所述浮动块(423)通过一号导杆(422)与一号滑块(421)固定连接；所述一号滑块(421)在一号滑槽(41)上滑动；所述浮动块(423)下方设有三号滑块(426)；所述三号滑块(426)中设有二号滑槽(428)；所述二号导杆(424)一端与浮动块(423)连接；二号导杆(424)的另一端设有二号滑块(429)、其用于带动三号滑块(426)运动；所述三号滑块(426)通过一号滑动伸缩杆(425)一端与球形挡块(427)固定连接、一号滑动伸缩杆(425)另一端与一号密封仓(4)侧壁固定连接；所述球形挡块(427)与二号进液口(43)配合使用；

所述转动单元(513)包括转动扇叶(514)、一号转动环(515)、震动单元(516)和夹紧单元(7)；所述转动扇叶(514)固定安装在一号转动环(515)上；所述夹紧单元(7)通过震动单元(516)转动安装在一号转动环(515)中；

所述震动单元(516)为螺旋板(517)；所述螺旋板(517)用于使夹紧单元(7)相对于一号转动环(515)转动；

所述夹紧单元(7)包括二号转动环(71)、二号滑动伸缩杆(72)、一号弹簧(73)和夹紧块(74)；所述二号滑动伸缩杆(72)一端与二号转动环(71)固定连接、二号滑动伸缩杆(72)另一端与夹紧块(74)固定连接；二号滑动伸缩杆(72)外套设有一号弹簧(73)；所述二号滑动伸缩杆(72)、一号弹簧(73)和夹紧块(74)配合用于夹紧晶圆(8)。