1.一种暗场显微大视场自动拼接成像方法，包括如下步骤：步骤一、设计一个暗场显微成像装置，装置主要由光学显微镜，标准光源以及红外激光装置构成；

步骤二、在设计完成的成像装置上进行二次成像，所获的子孔径图像分别为Mi和Ni，i＝

1,2,3...n；

步骤三、针对于第二次成像，采用潜在目标检测分析的方法，找出潜在目标的位置并对其进行合理的拉伸操作；

步骤四、将两次成像后处理的图像进行加权融合；获得新的明暗凸显，背景均匀的子孔径图像Pi；

Pi(x,y)＝(1‑Hi(x,y))×Mi(x,y)+Hi(x,y)×Ni(x,y)其中Pi代表最终所获得图像，Mi代表第一次所成的图像，其中每个点的权重为(1‑Hi),Ni代表第二次所成的图像，其对应的的权值为Hi；

步骤五、将新获得的子孔径图像Pi进行直接拼接，i＝1,2,3...n；

步骤四中，基于两次成像的各自优势，通过提取出第二次成像的目标来替换第一次成像中相应的区域，以得到明亮凸显，背景均匀子孔径图像Pi，保证最后的拼接图像能够得到背景均匀无缝的大视场图像。

2.如权利要求1所述的暗场显微大视场自动拼接成像方法，其特征在于：步骤二中，保持标准光源与光学显微镜一起移动，以保证对于每次成像所给定的光照一致。

3.如权利要求1所述的暗场显微大视场自动拼接成像方法，其特征在于：步骤二中，第一次成像给定其恒定光源，恒定的曝光时间以及光圈，获得背景均匀的子孔径图像Mi，以保证在拼接时能够保证子孔径图像均匀过渡；第二次成像设定自定义曝光时间，以获得明亮凸显的子孔径图像Ni。

4.如权利要求1所述的暗场显微大视场自动拼接成像方法，其特征在于：步骤三中，假设输入子孔径图像为Ο，对于其中任意像素(x,y)，将其通过带通滤波器处理后的绝对值作为对应像素处为显著性值：H(x,y)＝|O(x,y)*G(r,σ1,σ2)|G(r，σ1，σ2)＝g(r，σ1)‑g(r，σ2)*即为卷积符号，其中H为最终所要得到的显著性图，g(r,σ)为高斯函数；

G(r,σ1,σ2)为带通函数，具有低截止频率flow，高截止频率fhigh，这里σ1＞σ2；其中g(r,σ)

2 2 2

为高斯函数，r＝x +y ，σ是高斯函数的标准差；flow与fhigh分别由σ1与σ2决定；因此H也可以表示为H(x,y)＝|O(x,y)*g(r,σ1)‑O(x,y)*g(r,σ2)|显著性图H表征图像的潜在目标存在于不同像素与区域的分布权重，其灰度范围[0，

1]，值越大则越可能为目标区域，值越小则可能为背景区域。