1.一种实时超分辨偏振红外光电成像方法，其特征在于：所采用的装置包括光路上依次设置的红外成像镜头1，视场光阑3，2×2透镜阵列4，偏振片阵列5，孔径编码掩模6和红外焦平面阵列探测器7；

依次包括以下步骤：

1)目标的红外辐射经过红外成像镜头(1)，成像在一次像平面(2)上；

2)在中间像平面上，放置一长方形的视场光阑(3)，视场光阑(3)的尺寸保证中间像经过中继透镜成像在红外焦平面阵列探测器上时，所成像不超过光敏面大小的1/4；

3)中间像经过2×2的中继成像透镜阵列成4个等大的实像在红外焦平面阵列探测器(7)的光敏面上，其中，每一个透镜成像在光敏面的不同位置，4个像充满探测器且位置互不重合；

4)紧贴红外焦平面阵列探测器光敏面的前表面，放置偏振片阵列(5)：a)与4个等大的实像相对应，偏振片阵列(5)分为上下2部分；

b)上面的偏振片透振方向为水平方向，下面偏振片的透振方向为垂直方向；

5)紧贴红外焦平面阵列探测器光敏面的前表面，放置孔径编码掩模(6)：a)与4个等大的实像对应，掩模分为4个区域；

b)每一个区域的掩模形状各不相同，且子掩模数目与对应面积的探测器上的像素数相同，子掩模大小与感光像元的尺寸相同；

c)每一子掩模为偏振二值掩模，只有透光部分到达光敏面；

d)在第1个区域中，每一子掩模包括一个2×1的掩模子阵，其中子阵左边透光，透光区域的大小为感光像元尺寸的1/2；在第2个区域中，每一子掩模包括一个2×1的掩模子阵，其中子阵右边透光，透光区域的大小为感光像元尺寸的1/2；在第3个区域中，每一子掩模包括一个1×2的振掩模子阵，其中子阵上边透光，透光区域的大小为感光像元尺寸的1/2；在第4个区域中，每一子掩模包括一个1×2的掩模子阵，其中子阵下边透光，透光区域的大小为感光像元尺寸的1/2；

6)偏振片阵列(5)和孔径编码掩模(6)相结合构成偏振编码孔径阵列，只允许水平或垂直偏振的光透过掩模到达光敏面；

7)根据红外焦平面阵列探测器(7)获得的4副偏振强度调制图像，通过水平、垂直方向像素插值完成实时超分辨偏振图像重构。