1.一种光学投影模组，用于投射预设图案至被测目标物上进行感测，其包括光束调制元件及光源结构，所述光源结构包括半导体基底及形成在半导体基底上发出光强均匀分布光束的图案光束发光体，所述光束调制元件包括基板及形成在所述基板上的图案化光学纹路，所述图案化光学纹路对应所述图案光束发光体进行设置，所述图案化光学纹路将图案光束发光体发出的光强均匀分布的光场进行重新排布后形成具有预设图案的图案光束投射至被测目标物上。

2.如权利要求1所述的光学投影模组，其特征在于，所述预设图案选自不规则分布光斑图案、规则排布的条纹状图案、以及沿不同方向相互交叉的规则网格图案的图案光束中的一种及其组合。

3.如权利要求1所述的光学投影模组，其特征在于，所述图案光束发光体为多个按照预设相同间隔均匀排布的垂直腔面发射激光器发光单元。

4.如权利要求3所述的光学投影模组，其特征在于，所述多个垂直腔面发射激光器发光单元的数量范围为2至12个。

5.如权利要求1所述的光学投影模组，其特征在于，所述图案光束发光体为一个单孔宽面型垂直腔面发射激光器。

6.如权利要求1所述的光学投影模组，其特征在于，所述图案光束发光体形成在半导体基底的中间位置。

7.如权利要求1所述的光学投影模组，其特征在于，所述光源结构还包括多个发出光强均匀分布光束的泛光光束发光体，所述泛光光束发光体与图案光束发光体形成在相同的半导体基底上，并可以分别被独立控制发光。

8.如权利要求7所述的光学投影模组，其特征在于，所述图案光束发光体形成在半导体基底的中部，所述泛光光束发光体围绕所述图案光束发光体对称分布。

9.如权利要求7所述的光学投影模组，其特征在于，所述光束调制元件还包括形成在基板上对应泛光光束发光体的扩散光学纹路，所述扩散光学纹路将所述泛光光束发光体所发出的原始光束扩散形成光强均匀分布的泛光光束投射至被测目标物上。

10.一种光学投影方法，其用于在一被测目标物上投射出用于感测的预设图案，所述光学投影方法包括如下步骤：发出光强均匀分布的光束；及

将所述光束的光强均匀分布的光场进行重新排布形成具有预设图案的图案光束投射至被测目标物上。

11.如权利要求10所述的光学投影方法，其特征在于：所述光束均匀分布的光场被重新排布以形成能够投射出不规则分布光斑图案的图案光束；或所述光束是由多个按照相同间隔均匀排布的发光体所发出的光强均匀分布的光场，所述沿同一个预设方向排列的发光体所发出的光被融合形成能够投射出规则排布条纹图案的图案光束；或所述光束是由多个按照相同间隔均匀排布的发光体所发出的光强均匀分布的光场，所述沿相互交叉的两个预设方向排列的发光体所发出的光被融合形成能够投射出规则网格图案的图案光束。