1.一种三元MOF纳米片阵列材料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：S1：清洗泡沫镍；

S2：将镍盐、铁盐、钴盐和有机配体溶解于甲醇中，得混合溶液，然后置于反应釜，加入步骤S1清洗的泡沫镍，密封，水热反应，然后，取出，自然冷却至室温，产物经清洗干燥，得到负载在泡沫镍上的三元MOF纳米片阵列材料。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S2中所述镍盐在混合溶液中浓度-1 -1≥0.024mol·L ，铁盐在混合溶液的浓度≥0.005mol·L ，钴盐在混合溶液中的浓度≥

0.0005mol·L-1，甲醇的体积≥35mL。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤S2所述钴盐浓度为0.0005～

0.002mol·L-1。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤S2中所述有机配体在混合溶液中的浓度为0.114-0.115mol·L-1。

5.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤S2中所述镍盐选自六水合硝酸镍，所述铁盐选自九水合硝酸铁，所述钴盐选自六水合硝酸钴。

6.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述有机配体选自2-甲基咪唑。

7.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤S2中所述水热反应是指于180℃水热反应6h。

8.一种权利要求1-7任一项所述方法制备的三元MOF纳米片阵列材料。

9.一种权利要求1-7任一项所述方法制备的三元MOF纳米片阵列材料在电解水析氧反应方面的应用。