1.一种可绕折的光扩散膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1)光刻制备微透镜阵列光刻胶母版；

S2)电铸制备镍模板；

S3)制备掺杂聚苯乙烯微米小球的全氟聚醚混合溶液；

S4)将上述混合溶液均匀涂布于镍模板表面；

S5)紫外纳米压印并脱模，制备出可绕折光扩散膜；所述的可绕折光扩散薄膜由固化的全氟聚醚微透镜阵列及聚苯乙烯小球组成，且聚苯乙烯小球内嵌在微透镜阵列内，微透镜的直径范围为25-100微米，聚苯乙烯小球直径范围为2-6微米，可绕折光扩散薄膜整体厚度为300微米-1毫米。

2.根据权利要求1所述的一种可绕折的光扩散膜的制备方法，其特征在于：所述的微透镜阵列光刻胶母版上的微透镜阵列是凸起的阵列或者凹陷的阵列。

3.根据权利要求1所述的一种可绕折的光扩散膜的制备方法，其特征在于：所述的微透镜阵列为周期分布或随机分布。

4.根据权利要求1所述的一种可绕折的光扩散膜的制备方法，步骤S3)中，所述的全氟聚醚包括前聚体和光固化剂，所述的前聚体和光固化剂的质量百分百比范围为85％-95％。

5.根据权利要求1所述的一种可绕折的光扩散膜的制备方法，步骤S3)中，所述的聚苯乙烯微米小球与全氟聚醚的混合溶液的掺杂质量百分百比范围为3％-8％。

6.根据权利要求1所述的一种可绕折的光扩散膜的制备方法，步骤S5)中，所述的紫外纳米压印采用波长为395nm，光强为500mJ·cm-2的紫外灯光照6-10秒钟，然后将制备的可绕折的光扩散膜从镍模板表面脱模。