1.一种含芴或芴酮结构具有高平面性的二胺单体，其特征在于该单体结构如通式VI～VII所示：VI：

其中，Z为 Ar4选自下列结构式中的任何一种：

2.权利要求1所述含芴或芴酮结构具有高平面性的二胺单体的合成方法，其特征在于包括以下步骤：(D1)利用2,7-二卤代芴或芴酮、3,6-二卤代芴或芴酮中的卤原子与对氨基苯硼酸盐酸盐进行Suzuki反应得到单体13或单体14；(D2)利用步骤(D1)中的单体13或单体

14与含一个卤原子和一个硝基的Ar4单体进行取代反应得到二硝基单体15或单体16；(D3)将步骤(D2)中的二硝基单体15或单体16还原成二胺，获得如通式VI和VII所示的含芴或芴酮结构的二胺单体。其中步骤(D1～D2)中的单体具有如下结构特征：

3.权利要求1所述含芴或芴酮结构具有高平面性的二胺单体，应用于合成具有高阻隔性和功能化聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺和聚脲酰亚胺聚合物。