1.基于微反射镜阵列的消梯形畸变的光学装置，其特征是，该装置包括光阑(2)、成像系统(3)、半透半反镜(4)、微反射镜阵列(6)、准直系统(7)和二次成像系统(9)；物面(1)发出的光经过光阑(2)、入射到成像系统(3)，光经过成像系统(3)会聚到半透半反镜(4)上，光经过半透半反镜(4)透射后成像于一次像面(5)位置，将微反射镜阵列(6)置于一次像面(5)处，光入射到微反射镜阵列(6)上，光经过微反射镜阵列(6)反射，反射光经半透半反镜(4)反射到准直系统(7)上，光经过准直系统(7)后入射到二次成像系统(9)，最终成像于二次像面(10)。

2.根据权利要求1所述的基于微反射镜阵列的消梯形畸变的光学装置，其特征在于，所述微反射镜阵列(6)由多列微反射镜组成，每列宽度为d，在10um量级，多列微反射镜斜面为反射面，倾角为θb，垂直入射到微反射镜阵列(6)的光线以相对于入射光线2θb的角度出射。

3.根据权利要求2所述的基于微反射镜阵列的消梯形畸变的光学装置，其特征在于，所述倾角θb＝10‑20°。

4.基于微反射镜阵列消梯形畸变的方法，物面(1)发出的光经过光阑(2)入射到成像系统(3)，光经过成像系统(3)会聚到半透半反镜(4)上，光经过半透半反镜(4)透射后成像于一次像面(5)位置，其特征是，该方法利用微反射镜阵列(6)二次成像消梯形畸变，具体步骤为：

步骤一，根据一次像面(5)大小设计准直系统(7)；

步骤二，根据准直系统(7)的视场大小设计二次成像系统(9)；

步骤三，选择倾角为θb的微反射镜阵列(6)；

步骤四，将微反射镜阵列(6)置于一次像面(5)处，光经过微反射镜阵列(6)反射，反射光经半透半反镜(4)反射到准直系统(7)上，光经过准直系统(7)后入射到二次成像系统(9)，最终成像于二次像面(10)；

步骤五，调整微反射镜阵列(6)的倾角θb和准直系统出瞳(8)与二次成像系统(9)主平面之间的距离d'，控制额外引入梯形畸变的大小，补偿倾斜成像中的梯形畸变。

5.根据权利要求4所述的基于微反射镜阵列消梯形畸变的方法，其特征在于，所述的θb＝10‑20°。