1.一种石墨烯网栅薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一、通过化学气相沉积法在铜箔表面生长石墨烯薄膜，之后将石墨烯/铜箔置于匀胶机中，以1500-3200 r/min的速率旋涂50 100s，将PMMA丙酮溶液旋涂在石墨烯/铜箔上表~面；将其置于加热台上，加热至60 100°C 并保温20 40min；

~ ~

步骤二、将铜箔漂浮于0.8 1.2mol/L的氯化铁溶液上，铜箔下表面与氯化铁溶液接触~进行腐蚀，腐蚀时间6 12h；将漂浮于氯化铁溶液上的石墨烯薄膜捞起置于去离子水上漂~洗，重复三遍；

步骤三、将石英平板置于去离子水中，超声清洗5min；之后将其置于匀胶机中，以2000~

4000r/min的速率旋涂10 30s，将光刻胶旋涂在石英平板上表面；将旋涂光刻胶的石英平板~置于加热台上，加热至60 90°C 并保温8 15min；

~ ~

步骤四、使用网栅掩膜版对石英平板上表面的光刻胶进行曝光，曝光时间10 40s；之后~对光刻胶进行显影，显影时间为30 60s；将显影后的石英平板置于去离子水中，超声清洗~

7min，重复三遍；

步骤五、用石英板的上表面将步骤一中漂浮于去离子水上的石墨烯薄膜捞起，使其吸附于光刻图案上，将石英板竖立沥干20 40min；将吸附有石墨烯薄膜的石英板置于加热台，~加热至90 130°C并保温15 30min；

~ ~

步骤六、将石英板置于丙酮中，水浴加热至35 55°C并保温20 40min，去除光刻胶图案~ ~及其表面的石墨烯薄膜；将石英板从丙酮溶液中捞出，置于去离子水中漂洗，重复三遍，氮气吹干。

2.根据权利要求1所述石墨烯网栅薄膜的制备方法，其特征在于：在步骤四中，所述网栅掩膜版选用矩形网栅掩膜版、圆形网栅掩膜版或正五边网栅掩膜版。