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专利号: 2019100234064
申请人: 浙江理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 光学
更新日期:2024-11-06
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种彩色图像,其特征在于,包括依次设置的聚焦元件阵列层、第一染色层、基材层、微图形阵列层和第二染色层,各层之间相互粘接形成薄膜型彩色图像;所述聚焦元件阵列层由聚焦单元排列而成的聚焦元件阵列构成,所述第一染色层由彩色像素点阵排列而成,所述微图形阵列层由微图形单元排列而成的微图形阵列构成,所述第二染色层由彩色像素点阵排列而成。

2.根据权利要1所述的一种彩色图像,其特征在于,所述微图形阵列位于聚焦元件阵列的焦深范围内,形成聚焦莫尔成像系统,在散射光照明下,所述聚焦莫尔成像系统通过第二染色层和第一染色层形成彩色莫尔图像;或所述微图形阵列在聚焦元件阵列的焦深范围之外,形成离焦莫尔成像系统,在点光源或则准直光源照明下,所述离焦莫尔成像系统通过第二染色层和第一染色层形成彩色莫尔图像。

3.根据权利要求1或2所述的彩色图像,其特征在于,所述第一染色层的彩色像素点阵由透射型的彩色像素点阵或衍射光栅构成的彩色像素点阵或法布里珀罗腔构成的彩色像素点阵排列而成。

4.根据权利要求3所述的彩色图像,其特征在于,所述第一染色层的彩色像素点与聚焦元件阵列层的聚焦单元一一对应设置,或第一染色层的两个或多个彩色像素点与聚焦元件阵列层的一个聚焦单元对应设置。

5.根据权利要求1或4所述的彩色图像,其特征在于,所述第二染色层的彩色像素点与微图形阵列层的微图形单元内图形像素的位置、形状和尺寸相互匹配;所述第二染色层的彩色像素点填充或者覆盖在所述微图形单元内的图形像素单元中。

6.根据权利要求1或4所述的彩色图像,其特征在于,所述第一染色层中的彩色像素点的尺寸大于第二染色层中的彩色像素点的尺寸;所述第二染色层中的彩色像素点的尺寸小于等于微图形阵列中微图形单元的像素点的尺寸;所述微图形单元的像素点的尺寸小于20μm,所述第二染色层的彩色像素点的尺寸小于5μm。

7.根据权利要1所述的一种彩色图像,其特征在于,第一染色层和基材层构成两个或多个重复单元,基材层与下一个重复单元的第一染色层的上表面粘接性接触。

8.根据权利要求1或2或5或6或7所述的彩色图像,其特征在于,所述聚焦单元为具有聚焦功能的光学元件,所述具有聚焦功能的光学元件为球面微透镜、反射球面微透镜、非球面透镜、柱透镜或菲涅耳透镜。

9.根据权利要求8所述的彩色图像,其特征在于,所述聚焦元件单元、第一染色层的像素点和微图形阵列层的微图形单元的排列方式为对称排列、非对称排列或随机排列。

10.根据权利要求8所述的彩色图像,其特征在于,所述聚焦元件阵列单元的口径为几何形状,所述几何形状为正方形、长方形、六边形、三角形或圆形。