1.一种激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，

首先，将对激光具有吸附作用的黏胶涂覆在工件的待清洗表面，通过黏胶将颗粒污物(4)包围，经过干燥后颗粒污物(4)将被固化在黏胶内；

然后，利用脉冲激光束(1)辐照黏胶层表面，脉冲激光束(1)作用在黏胶层上，产生冲击波，在激光的瞬时热力作用下，黏胶层和固化在黏胶内的颗粒污物(4)开裂，形成粒度为100～300μm的碎片，并从工件的表面飞离，使颗粒污物(4)从工件的待清洗表面分离；工件经过高压气体吹洗之后，放入丙酮溶液进行超声清洗清除粘着在工件表面的残渣。

2.如权利要求1所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述对激光具有吸附作用的黏胶由丙烯酸环氧树脂层(3)和涂覆在丙烯酸环氧树脂层(3)上的吸收层组成，所述吸收层在丙烯酸环氧树脂层(3)没有干燥之前涂覆，因此吸收层与黏胶粘结在一起。

3.如权利要求2所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述的吸收层为黑色氨基漆(2)，厚度为5-20μm；所述丙烯酸环氧树脂层(3)的厚度为50-80μm。

4.如权利要求2所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述吸收层为黑色胶带(7)，所述黑色胶带(7)为黑色聚酯胶带；黑色聚酯胶带厚度为5-10μm；所述丙烯酸环氧树脂层(3)的厚度为30-100μm。

5.如权利要求4所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，在所述在黑胶带上表面涂覆一层流动的水膜(8)；脉冲激光束(1)透过流动的水膜(8)，辐照在黑胶带表面，对整个硅片表面进行激光清洗。

6.如权利要求5所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述的流动的水膜(8)为去离子水膜(8)，其厚度为1～1.5mm，流速为1cm/s～3cm/s；所述的黑胶带为黑色聚酯胶带，厚度为5-15μm；丙烯酸环氧树脂厚度为30-100μm。

7.如权利要求1所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述对激光具有吸附作用的黏胶为由丙烯酸环氧树脂和纳米碳颗粒按照体积比4:1混合而成，黏胶厚度为30-100μm。

8.如权利要求7所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述黏胶固化后，采用功率密度为1×105～5×105GW/cm2的脉冲激光束(1)辐照在激光具有吸附作用的黏胶表面烧蚀形成规则盲孔(11)阵列；再采用脉冲激光束(1)辐照在相邻的四个盲孔(11)中间位置即激光清洗点位(12)，对整个工件表面进行激光清洗。

9.如权利要求8所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，相邻盲孔(11)之间的距离d1和相邻激光清洗点位(12)的距离d2为100-300μm，盲孔(11)的孔径为40-

60μm、深度为20-40μm。

10.如权利要求1所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述对激光具有吸附作用的黏胶由以下涂覆材料涂覆而成，所述涂层材料成份为丙烯酸环氧树脂、纳米硅酮粉、聚氨酯匀泡剂和纳米碳粉颗粒，其中丙烯酸环氧树脂的体积含量为60-70％，纳米硅酮粉的体积含量为5-8％，聚氨酯匀泡剂的体积含量为6-8％，纳米碳粉颗粒的体积含量为20-25％；涂层厚度为30-100微米。

11.如权利要求1所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述的脉冲激光束(1)的脉宽范围为10～300ns，激光束到达吸收层表面时的直径为50～60μm，功率密度范围为106～107GW/cm2，所述的污物颗粒的尺寸为0.5～50μm，所述丙酮溶液的体积百分浓度为50％。