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专利号: 2019101302213
申请人: 三峡大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2024-11-21
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种锰钴氧化物与氮掺杂碳原位复合电极的制作方法,其特征在于,具体制备方法为:

(1)将硝酸钴和硝酸锰溶于去离子水中,利用水热反应在导电基底上生长层状MnCo2O4氧化物,再将MnCo2O4氧化物于空气中退火形成多孔、层状锰钴氧化物;

(2)将步骤(1)中生长有锰钴氧化物的基底于氨气气氛中300 500℃退火反应;

~

(3)将步骤(2)中得到的氮化后长有锰钴氧化物的基底在吡咯混合溶液进行电沉积,其吡咯混合溶液为高氯酸锂,无水碳酸钠与吡咯的混合溶液,其中高氯酸锂,无水碳酸钠与吡咯的质量比为1:(1.5‑3):(0.8‑1.2),最后在保护气氛下退火得到锰钴氧化物与氮掺杂碳原位复合电极。

2.根据权利要求1所述的锰钴氧化物与氮掺杂碳原位复合电极的制作方法,其特征在于,硝酸钴水溶液浓度为50 200 mM,硝酸锰水溶液浓度为50 200 mM,水热时间为6 8 h,水~ ~ ~

热温度为120℃ 180℃。

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3.根据权利要求1所述的锰钴氧化物与氮掺杂碳原位复合电极的制作方法,其特征在于,所述的导电基底包括碳布、石墨纸、泡沫铜或镍中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的锰钴氧化物与氮掺杂碳原位复合电极的制作方法,其特征在于,步骤(1)中在空气中退火及步骤(2)在氨气中退火的温度为400℃,反应时间为0.5 2 h。

~

5.根据权利要求1所述的锰钴氧化物与氮掺杂碳原位复合电极的制作方法,其特征在于,所述的高氯酸锂,无水碳酸钠与吡咯的质量比为1:2:1。

6.根据权利要求1所述的锰钴氧化物与氮掺杂碳原位复合电极的制作方法,其特征在于,步骤(3)中在Ar气或N2气的保护气氛,以300~400℃进行退火反应,反应时间为1~3 h。