1.一种同时探测SAM和OAM光波的自旋及轨道角动量探测装置，其特征在于，所述装置为厚度0.15～0.3μm的金属薄片；所述金属薄片上设置多对纳米狭缝，纳米狭缝呈同心双圆环状均匀分布；每对纳米狭缝相互垂直，且满足下式：其中，d为内圈纳米狭缝和基础线之间的距离，所述基础线是与纳米狭缝所在的圆环同圆心，且半径长度不超过狭缝所在圆环的圆心至金属薄片的最短径向长度；θout为纳米狭缝的长边以狭缝几何中心为圆心沿逆时针转过的角度；kSPP和nSPP分别是SPP波的波数和有效折射率；每对几何中心之间的距离w设定为λSPP/2，λSPP是SPP波的波长；

和 满足下式：

设定SAM为左旋圆偏振时，SPPs对应的波前相位是 SAM为右旋圆偏振时，SPPs对应的波前相位是

2.根据权利要求1所述的同时探测SAM和OAM光波自旋及轨道角动量探测装置，其特征在于，所述金属薄片为金薄片或银薄片。

3.根据权利要求2所述的同时探测SAM和OAM光波的自旋及轨道角动量探测装置，其特征在于，所述金属薄片是长、宽20μm、厚度为0.2μm的银薄片。

4.根据权利要求2或3所述的同时探测SAM和OAM光波的自旋及轨道角动量探测装置，其特征在于，所述银薄片上刻蚀60～100对纳米狭缝。

5.权利要求1～4任一所述的同时探测SAM和OAM光波的自旋及轨道角动量探测装置在探测自旋角动量和/或轨道角动量方面的应用。

6.根据权利要求5所述的应用，其特征在于，所述装置用于检测波长为780nm～1030nm的光波。

7.一种同时探测SAM和OAM光波的方法，其特征在于，应用权利要求1～5任一所述的装置，将待测光波自所述装置的背面射入，根据装置表面的光强分布确定光波状态。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，根据所述装置表面的光强分布确定SAM和/或OAM状态；具体包括：(1)当光波SAM为+1，OAM为+1，在装置上第一光斑聚焦位置呈现非聚焦环状光；

(2)当光波SAM为+1，OAM为-1，在装置第一光斑聚焦位置呈现聚焦的点；

(3)当光波SAM为-1，OAM为+1，在装置第二光斑聚焦位置呈现聚焦的点；

(4)当光波SAM为-1，OAM为-1，在装置第二光斑聚焦位置呈现非聚焦环状光；

所述第一光斑聚焦位置和第二光斑聚焦位置呈轴对称。

9.权利要求7或8所述的方法在光通信、超级显微成像、芯片光量子领域的应用。