1.一种模板法生长硫化钨分子层薄膜的方法，其特征在于，该方法具体包括以下步骤：步骤(1)、荧光染料分子层的制备

将SiO2/Si浸入浓度为10mM的3-氨丙基三乙氧基硅烷甲苯溶液中，经过20min后取出在甲苯中超声震荡15min清洗干净；然后，浸入浓度为0.2mM的荧光染料异硫氰酸荧光素，吡咯亚甲基,香豆素,荧光黄,荧光素钠乙醇溶液，经过浸泡4小时后，取出，然后在乙醇中清洗

15min；荧光染料分子吸附在SiO2表面，形成荧光染料分子层；

步骤(2)、二硫化钨单分子层的制备

通过溶液旋涂法，将0.5mg/ml的WS2单分子层有溶液或有机溶液N-甲基吡咯烷酮旋涂至步骤(1)的产物表面；旋涂速度2500-3500转/分钟，旋涂时间50-70s；

步骤(3)、有机半导体层的制备

在上述步骤(2)的表面，通过溶液旋涂法旋涂PCBM形成载流子传输层；PCBM为溶于氯苯的溶液，浓度为4mg/ml；

步骤(4)、在步骤(3)的产物表面，通过热蒸镀法先后蒸镀金属钯和金，钯厚度为10纳米，金厚度为50nm；完成器件制备。