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专利号: 2019102289678
申请人: 西安工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 测量;测试
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.光学元件表面形貌及亚表面缺陷信息的检测方法,其特征在于:所述检测方法的步骤为:步骤一:由光源射出一束宽光谱的复色光穿过小孔S,经过偏振片后,将普通光源转变为具有振动方向垂直于XOY平面的线偏振光,照射在色散镜头组上;

步骤二:光线经过色散镜头会聚后照射在待测物体上,色散镜头将波长为的单色光会聚在物体的表面上,将波长为的单色光会聚在物体内部的亚表面缺陷上,光线经过表面和亚表面缺陷散射,后向散射光将再次通过色散镜头;

步骤三:通过色散镜头收集的散射光经过呈45°的分光镜反射后,水平入射进入光阑,光阑为具有较大比值的矩形空间滤波器,长度方向垂直于XOY平面,经过光阑后表面散射光具有更大的偏振度;

步骤四:会聚到物体表面上波长为的散射光经过偏振分光棱镜后会聚在小孔S’上,到达光谱仪一;

步骤五:会聚到亚表面缺陷上波长为的散射光偏振态发生改变,经过偏振分光棱镜,其中一部分经过透射会聚到小孔S’上,到达光谱仪一,另一部分经过偏振分光棱镜会聚到小孔S’’上,到达光谱仪二;

步骤六:光谱仪一的光谱在和处出现峰值,由于表面散射信号远强于亚表面缺陷散射信号,因此得到表面会聚光的波长,根据波长与会聚点之间的关系确定出表面的位置信息;

步骤七:光谱仪二的光谱会聚到亚表面缺陷光的波长处出现峰值,根据波长与会聚点之间的关系得到亚表面缺陷的位置;

步骤八:由表面位置信息和亚表面缺陷位置信息得到亚表面缺陷的深度信息;

步骤九:在同一检测位置存在多个缺陷时,在光谱仪二的光谱上将出现多个峰值,确定检测位置处的亚表面缺陷分布;

步骤十:将探测系统在光学元件表面上二维平移,得到不同位置上的表面位置信息和亚表面缺陷信息三维重建,得到光学元件的表面形貌和亚表面缺陷信息。

2.根据权利要求1所述的一种光学元件表面形貌及亚表面缺陷信息的检测方法,其特征在于:所述的步骤一中的复色光呈白光。

3.根据权利要求1所述的用于检测光学元件表面形貌及亚表面缺陷信息的检测装置,其特征在于:所述的装置包括白光点光源(1)、偏振片(2)、分光镜(3)、色散镜头组(4)、光阑(6)、偏振分光棱镜(7)、光谱仪一(8)、光谱仪二(9)、计算机(10);

所述的白光点光源(1)、偏振片(2)、分光镜(3)和色散镜头组(4)依次设置于光轴上,分光棱镜(7)设置于分光镜(3)的一侧,分光棱镜(7)的前面设置有以入射面为中心,位于表面法线上的窄矩形光阑(6),光谱仪一(8)和光谱仪二(9)分别设置于分光棱镜(7)两个相垂直光路上,光谱仪一(8)与光谱仪二(9)与计算机(10)连接。

4.根据权利要求3所述的所述的用于检测光学元件表面形貌及亚表面缺陷信息的检测装置,其特征在于:所述的分光镜(3)的角度设置为45°。