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专利号: 2019102445178
申请人: 陕西师范大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕
更新日期:2024-01-05
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摘要:

权利要求书:

1.一种氧化铜/硒复合材料薄膜,其特征在于:所述氧化铜/硒复合材料薄膜为CuO和Se的复合物薄膜,且CuO和Se的复合物中存在中间相CuSe2和CuSe中任意一种或两种;该薄膜中Cu元素的原子百分含量为10%~60%,O元素的原子百分含量与Cu元素相同,Se元素的原子百分含量为10%~60%;

上述CuO和Se的复合物薄膜采用磁控溅射法制备,具体制备方法如下:

采用CuO和Se共溅射的方式在玻璃衬底上沉积一层CuO/Se复合材料薄膜,然后在空气中300~400℃退火1~3分钟,得到氧化铜/硒复合材料薄膜;或先用磁控溅射法在玻璃衬底上沉积一层CuO膜,再在CuO膜上热蒸发沉积一层Se膜,接着在空气中300~400℃退火10~

60分钟,得到氧化铜/硒复合材料薄膜;

或者上述氧化铜/硒复合材料薄膜采用化学溶液法制备而成,具体制备方法为:将CuO粉末和Se粉末按摩尔比为1:2~3研磨混合均匀后加入二甲亚砜中,在50~70℃下搅拌6~

10小时,所得反应液旋涂于玻璃衬底上,然后在150~200℃下退火5~10分钟,制备成氧化铜/硒复合材料薄膜。

2.根据权利要求1所述的氧化铜/硒复合材料薄膜,其特征在于:所述氧化铜/硒复合材料薄膜中Cu元素的原子百分含量为20%~40%,O元素的原子百分含量与Cu元素相同,Se元素的原子百分含量为20%~50%。

3.根据权利要求1或2所述的氧化铜/硒复合材料薄膜,其特征在于:所述氧化铜/硒复合材料薄膜中还掺杂有Si、Fe、Ge中任意一种。

4.根据权利要求3所述的氧化铜/硒复合材料薄膜,其特征在于:所述氧化铜/硒复合材料薄膜中掺杂的Si或Fe或Ge元素的原子百分含量为3%~10%。

5.根据权利要求1所述的氧化铜/硒复合材料薄膜,其特征在于:所述的玻璃衬底为普通玻璃、石英玻璃、氧化铟锡导电玻璃、掺氟氧化锡导电玻璃中的任意一种。