1.一种光敏感性Zr‑B‑Si‑C陶瓷前驱体的原位制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

（1）用甲苯溶液将甲基乙烯基二氯硅烷和硼烷二甲硫醚混合均匀，得到第一混合液，然后往所述第一混合液中加入金属钠进行脱氯，得到甲基乙烯基硼硅烷；

（2）用有机溶剂将氯甲基三氯硅烷、甲基氯甲基二氯硅烷和二氯二茂锆混合均匀，得到第二混合液，然后往所述第二混合液中加入金属镁进行第一保温反应，得到反应液，然后往所述反应液中加入还原剂进行第二保温反应，得到聚锆碳硅烷；

（3）将步骤（1）得到的甲基乙烯基硼硅烷和步骤（2）得到的聚锆碳硅烷按当量1:2的比例混合均匀，得到乙烯基Zr‑B‑Si‑C烷；

（4）将步骤（3）得到的乙烯基Zr‑B‑Si‑C烷与巯基丙酸酯混合均匀，得到混合料，然后往所述混合料中加入光引发剂引发光聚合反应，制得光敏感性Zr‑B‑Si‑C陶瓷前驱体；所述光敏感性Zr‑B‑Si‑C陶瓷前驱体中所述光引发剂的质量百分含量为0.9wt%。

2.根据权利要求1所述的原位制备方法，其特征在于：所述巯基丙酸酯为多元醇与3‑巯基丙酸经酯化反应得到；

所述多元醇选自乙二醇、1,3‑丙二醇、丙三醇、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷、季戊四醇、聚丙二醇中的一种或多种。

3.根据权利要求2所述的原位制备方法，其特征在于：所述多元醇选自1,3‑丙二醇、三羟甲基丙烷和季戊四醇中的一种或多种。

4.根据权利要求2所述的原位制备方法，其特征在于：所述多元醇为三羟甲基丙烷，所述三羟甲基丙烷与所述3‑巯基丙酸的摩尔比为1:（2~

4）。

5.根据权利要求4所述的原位制备方法，其特征在于：所述多元醇为三羟甲基丙烷，所述三羟甲基丙烷与所述3‑巯基丙酸的摩尔比为1:3。

6.根据权利要求1所述的原位制备方法，其特征在于：所述有机溶剂选自四氢呋喃、乙醚和异丙醚中的一种或多种；和/或所述还原剂选自由氢化铝锂和硼氢化钠组成的组；和/或所述光引发剂选自异丙基硫杂蒽酮、2,4,6‑三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、苯基双（2,

4,6‑三甲基苯甲酰基）氧化膦、2,4,6‑三甲基苯甲酰基‑乙氧基‑苯基氧化膦、二苯甲酮和安息香二甲醚中的一种或多种。

7.根据权利要求6所述的原位制备方法，其特征在于：所述光引发剂为安息香二甲醚。

8.根据权利要求1至7任一项所述的原位制备方法，其特征在于：所述甲基乙烯基二氯硅烷、所述硼烷二甲硫醚和所述金属钠的摩尔比为（2 4）：1：（5~ ~

8）。

9.根据权利要求8所述的原位制备方法，其特征在于：所述甲基乙烯基二氯硅烷、所述硼烷二甲硫醚和所述金属钠的摩尔比为3:1:6。

10.根据权利要求1至7任一项所述的原位制备方法，其特征在于：所述氯甲基三氯硅烷、所述甲基氯甲基二氯硅烷和所述二氯二茂锆的摩尔比为（8~

12）：（8 12）：1，所述金属镁、所述还原剂和所述二氯二茂锆的摩尔比为（25 35）：（15 25）：~ ~ ~

1。

11.根据权利要求10所述的原位制备方法，其特征在于：所述氯甲基三氯硅烷、所述甲基氯甲基二氯硅烷和所述二氯二茂锆的摩尔比为10:10:

1，所述金属镁、所述还原剂和所述二氯二茂锆的摩尔比为30:20:1。

12.根据权利要求1至7任一项所述的原位制备方法，其特征在于：所述乙烯基Zr‑B‑Si‑C烷含有的乙烯基与所述巯基丙酸酯含有的巯基的摩尔比为1:1。

13.根据权利要求1至7任一项所述的原位制备方法，其特征在于：所述第一保温反应和/或所述第二保温反应的温度为50 100℃，时间为5 36h。

~ ~

14.由权利要求1至13任一项所述的原位制备方法制得的光敏感性Zr‑B‑Si‑C陶瓷前驱体。