1.一种在金属微孔内沉积类金刚石薄膜的装置，包括真空室（13）、微波源（12）、等离子体源（14）和基座（15），基座（15）上设置有样品台（16），样品台（16）上设置有固定座（17），其特征在于：所述固定座（17）的等离子体源（14）一侧垂直设置有安装板（8），安装板（8）上固定有喷嘴装置；

所述喷嘴装置包括石英管（2）、金属喷头（4）和金属连接管（9），石英管的一端渐缩，缩小端设置有金属喷头（4），所述金属喷头（4）与钨丝（3）一端焊接，钨丝（3）另一端通过真空转换连接器（18）与直流电源负极相连。

2.如权利要求1所述的一种在金属微孔内沉积类金刚石薄膜的装置，其特征在于：所述金属连接管（9），外表面设有螺纹，中部设置有定位环（1），金属连接管（9）固定穿设于安装板（8）上，定位环（1）位于安装板（8）的外侧。

3.一种在金属微孔内沉积类金刚石薄膜的方法，其特征在于：将带有金属微孔（7）的样品（6）放入固定座（17）内，金属微孔（7）与喷嘴装置的金属喷头（4）同轴设置且两者之间的间隙为1mm，将真空室内的气体压力降低到1Pa，注入2.45 GHz微波，使微波源（12）的出射端与石英窗口（10）接触，钨丝（3）一端连接到金属喷头（4）上，另一端通过真空转换连接器（18）直接与直流电源提的负极相连接，把负偏压经钨丝施加到金属喷头（4）上；样品（6）与直流电源正极相连通；喷嘴装置与反应气体管连通；在微波源（12）的作用下，在样品（6）的金属微孔（7）内沉积类金刚石薄膜；

所述方法的工艺参数为：

Ar： 35~45 sccm；CH4：180~22 0 sccm；TMS：15~25 sccm；总气流：200~300 sccm；

基底偏压：-200 -500V；脉冲频率：300 600 Hz；占空比：30 60%；

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沉积温度：250 300℃；工作气压：60 100Pa；沉积时间：10 40秒。

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