1.一种碳化硅无机陶瓷膜的生产方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)对碳化硅粉末表面进行氢刻蚀；使用30～100μm的碳化硅粉末，均匀摊开形成一薄层，在真空环境下，使用10～30L/min流速的氢气对碳化硅粉末进行表面氢刻蚀，使之形成具有原子级平整度的台阶阵列形貌的表面，刻蚀温度为1000～1300℃，刻蚀时间控制在50～100min；

(2)在碳化硅粉末表面生成石墨烯薄层；碳化硅粉末表面氢刻蚀完成后，在真空或氩气保护条件下完成碳硅键的热断裂，使碳化硅粉末表层的硅原子先于碳原子升华而从表面脱附，而表面富集的碳原子发生重构从而形成六方蜂窝状的石墨烯薄膜，热裂解的温度控制在1400～1800℃范围内，热裂解时间控制在1～30min范围内，真空或氩气环境下的环境压力控制在5～50kPa范围内；热裂解完成后，使用氩气将碳化硅粉末降温到室温，待用；

(3)将生成的石墨烯转化为氧化石墨烯；将生成完石墨烯的碳化硅粉末转化为氧化石墨烯分三步反应完成：①低温共混：将碳化硅与占其质量1～5％的NaNO3混合，缓慢加入5～

10倍的浓硫酸中，加入完成后，再缓慢加入KMnO4，其加入量为碳化硅粉末的0.15～0.2倍，于20～25℃反应5～10min；②中温反应：升温至35～40℃反应30～60min；③高温反应与终止：加入3％H2O2溶液来还原多余的KMnO4，H2O2溶液的加入量为KMnO4的10～15倍，反应温度为40～70℃，反应到无明显气泡为止，将碳化硅粉末滤出，冲洗残留的浓硫酸至中性；

(4)使生成的氧化石墨烯溶胀；将已覆盖有氧化石墨烯的碳化硅粉末置于溶剂中进行表面溶胀，溶胀温度为10～30℃，溶胀时间为12～24h，溶剂为水或甲醇、乙醇、异丙醇、乙二醇、丙三醇、二甘醇的醇类或甲酸、醋酸、丙酸、丁酸、戊酸、乙二酸、丙二酸、丁二酸、丙烯酸的有机酸类或丙酮、丁酮、N,N‑二甲基甲酰胺、N,N‑二甲基乙酰胺、四氢呋喃、二甲亚砜、N‑甲基吡咯烷酮、吡啶、二氧六环、氯化钠的水溶液、氯化钙的水溶液、硝酸钠的水溶液、硝酸钙的水溶液、磷酸钠的水溶液、氯化钾的水溶液、氯化铵的水溶液、氢氧化钾的水溶液、氢氧化钠的水溶液或这些溶液的混合液；

(5)碳化硅粉末塑性；将溶胀完成后滤出的碳化硅粉末置于模具中塑性，形状为扁平的立方体，厚度为0.1～1cm；

(6)碳化硅还原固化；将扁平的碳化硅立方体，置于100～600℃的环境下热还原固化，固化时间为12～24h。

2.根据权利要求1所述的一种碳化硅无机陶瓷膜的生产方法，其特征在于，刻蚀过程中对温度和时间的阶梯性变化进行控制，刻蚀流程为先1100℃刻蚀30min，再升温至1300℃刻蚀50min。

3.根据权利要求1所述的一种碳化硅无机陶瓷膜的生产方法，其特征在于，刻蚀过程中对温度和时间的阶梯性变化进行控制，刻蚀流程为先1000℃刻蚀30min，后升温至1150℃刻蚀30min，最后升温至1300℃刻蚀40min。