1.一种单分散超小二氧化硅纳米颗粒的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将SiO2球、水和保护剂混合，对SiO2球进行包覆，得到包覆混合料；

将所述包覆混合料与刻蚀剂混合，在室温搅拌条件下进行刻蚀反应，得到单分散超小二氧化硅纳米颗粒。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述SiO2球的粒径为50nm～2μm。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述保护剂为聚乙烯吡咯烷酮、多元醇、油酸或芳香醇酯。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述刻蚀剂为氢氧化钠、氢氧化钾或硼氢化钠。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述SiO2球、水、保护剂和刻蚀剂的用量比为0.3～1.8g:10～100mL:0.2～1.5g:0.2～1.2g。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述刻蚀反应的时间为50min～10h。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述搅拌的速率为300～600rpm。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述包覆在搅拌条件下进行，搅拌的速率为300～600rpm，时间为2～5h。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述刻蚀反应后，还包括对刻蚀反应的固体产物依次进行离心洗涤和干燥。

10.权利要求1～9任一项所述制备方法制备得到的单分散超小二氧化硅纳米颗粒，其特征在于，所述单分散超小二氧化硅纳米颗粒的粒径为3～20nm。