1.一种可见光响应产氢光催化剂GO/SiC/WO3的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

（1）纯SiC制备：将SiC粉末在高温下焙烧，自然降至室温，以去除杂质碳；然后在质量分数为2%HF溶液中密封避光浸泡，去除SiO2和其他氧化物；最后用去离子水反复离心洗涤至pH=7，置于真空干燥箱，得到纯SiC；

（2）WO3悬浮液：将WO3置于去离子水，混合均匀，得到WO3悬浮液；

（3）混合：向WO3悬浮液中，依次加入纯SiC、GO及离子液体，超声搅拌使其混合均匀；

（4）水热反应制备可见光响应产氢光催化剂GO/SiC/WO3：将步骤（3）得到的悬浮液转移至高温反应釜中，于200℃下反应一段时间，然后离心洗涤至pH=7，真空干燥，得到光催化材料，所述水热反应体系中，以钨元素计WO3的重量百分比为1‑10%，以碳元素计GO的重量百分比为0.5‑3%；

所述步骤（3）中的离子液体为1‑丁基‑3‑甲基咪唑六氟磷酸盐、1‑丁基‑3‑甲基咪唑四氟硼酸盐、1‑丁基‑3‑甲基咪唑溴盐和1‑乙基‑3‑甲基咪唑四氟硼酸盐中的一种。

2.根据权利要求1所述的可见光响应产氢光催化剂GO/SiC/WO3的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中焙烧温度为600‑800℃，焙烧时间为2‑6h，真空干燥温度为60℃。

3.根据权利要求1所述的可见光响应产氢光催化剂GO/SiC/WO3的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中焙烧温度为700℃，焙烧时间为5h。

4.根据权利要求1所述的可见光响应产氢光催化剂GO/SiC/WO3的制备方法，其特征在于，在水热反应体系中，以钨元素计WO3的重量百分比为8%，以碳元素计GO的重量百分比为

0.88%。

5.根据权利要求1所述的可见光响应产氢光催化剂GO/SiC/WO3的制备方法，其特征在于，所述步骤（3）中超声搅拌时间为10h，所述步骤（4）中水热反应时间为20h，真空干燥温度为60℃。

6.权利要求1‑5任一项所述方法制备的光催化剂在光解水方面的应用。