1.一种协同增强电磁屏蔽薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：将导电剂和海藻酸钠溶解、分散得导电屏蔽海藻酸钠功能性混合溶液，将磁性纳米材料和海藻酸钠溶解、分散得磁场屏蔽海藻酸钠功能性混合溶液；

S2：分别将导电屏蔽海藻酸钠功能性混合溶液和磁场屏蔽海藻酸钠功能性混合溶液涂布于薄膜基底材料两侧，得到导电屏蔽功能层和磁场屏蔽功能层，形成三明治结构电磁屏蔽薄膜；

S3：将三明治结构电磁屏蔽薄膜置于氯化钙溶液中进行交联固化，洗涤，干燥后即得所述协同增强电磁屏蔽薄膜；

S1所述导电屏蔽海藻酸钠功能性混合溶液中导电剂和海藻酸钠的质量比为1:3～100；

S1所述磁场屏蔽海藻酸钠功能性混合溶液中磁性纳米材料和海藻酸钠的质量比为1:1～50。

2.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，S1中所述导电剂为碳纳米管、石墨烯、银纳米线、铜纳米线、聚噻吩导电聚合物或聚吡咯导电聚合物中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，S1中所述磁性纳米材料为镍、钴、四氧化三铁中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，S1中所述磁性纳米材料为金属或合金纳米线、纳米链、纳米颗粒、纳米棒或纳米片中的一种或几种。

5.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，S2中所述薄膜基底材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯PET、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA、聚碳酸酯PC、聚乙烯PE、聚苯乙烯PS、聚酰亚胺PI或聚乙烯醇PVA；S2中所述薄膜基底材料的厚度为10～500μm。

6.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，S2中所述导电屏蔽功能层的厚度为0.02～1mm；S2中所述磁场屏蔽功能层的厚度为0.02～1mm。

7.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，S3中所述氯化钙溶液的质量浓度为1～

10％。

8.一种协同增强电磁屏蔽薄膜，其特征在于，通过权利要求1～7任一所述制备方法制备得到。