1.一种双波长交替调Q单纵模输出群脉冲激光器，其特征在于，所述激光器包括：第二泵浦源(1)、第二光纤(2)、第二耦合透镜组(3)、第二激光全反射镜(4)、第一激光全反射镜(5)、第一耦合透镜组(6)、第一光纤(7)、第一泵浦源(8)、第一激光增益介质(9)、第二激光增益介质(10)、第一起偏器(11)、四分之一波片(12)、第二起偏器(13)、第一45°反射镜(14)、第二45°反射镜(15)和电光调Q晶体(16)和激光输出镜(17)，其中：所述第一耦合透镜组(6)、第一激光全反射镜(5)以及第一激光增益介质(9)依次置于所述第一泵浦源(8)的一侧；

所述第一泵浦源(8)通过所述第一光纤(7)连接于所述第一耦合透镜组(6)，用于为所述第一激光增益介质(9)提供泵浦光；

所述第二耦合透镜组(3)、第二激光全反射镜(4)以及第二激光增益介质(10)依次置于所述第二泵浦源(1)的一侧；

所述第二泵浦源(1)通过所述第二光纤(2)连接于所述第二耦合透镜组(3)，用于为所述第二激光增益介质(10)提供泵浦光；

所述第一激光全反射镜(5)、第一激光增益介质(9)、第一起偏器(11)、第一45°反射镜(14)、电光调Q晶体(16)以及激光输出镜(17)构成第一路激光谐振腔；

所述第二激光全反射镜(4)、第二激光增益介质(10)、四分之一波片(12)、第二起偏器(13)、第二45°反射镜(15)、第一45°反射镜(14)、电光调Q晶体(16)以及激光输出镜(17)构成第二路激光谐振腔。

2.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述第一激光增益介质(9)和所述第二激光增益介质(10)平行放置，且与激光输出方向一致。

3.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述第一起偏器(11)、第一45°反射镜(14)、电光调Q晶体(16)以及激光输出镜(17)依次置于所述第一激光增益介质(9)远离所述第一激光全反射镜(5)的一侧，其中，所述电光调Q晶体(16)和所述激光输出镜(17)垂直于激光输出方向放置。

4.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述四分之一波片(12)、第二起偏器(13)、第二45°反射镜(15)依次置于所述第二激光增益介质(10)远离所述第二激光全反射镜(4)的一侧。

5.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述第一45°反射镜(14)和所述第二45°反射镜(15)平行放置。

6.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述激光器还包括激光电源(21)，其中：所述激光电源(21)与所述第一泵浦源(8)和所述第二泵浦源(1)连接，用于为所述第一泵浦源(8)和所述第二泵浦源(1)提供电源。

7.根据权利要求6所述的激光器，其特征在于，所述激光器还包括调Q模块(18)和调Q模块驱动系统(19)，其中：所述调Q模块(18)与所述电光调Q晶体(16)连接，用于对所述电光调Q晶体(16)施加高压方波信号；

所述调Q模块驱动系统(19)与所述调Q模块(18)连接，用于驱动所述调Q模块(18)对所述电光调Q晶体(16)施加高压方波信号。

8.根据权利要求7所述的激光器，其特征在于，所述激光器还包括中央控制系统(20)，其中：所述中央控制系统(20)与所述激光电源(21)和调Q模块驱动系统(19)连接，用于控制所述激光电源(21)以及所述调Q模块驱动系统(19)的触发与延时。

9.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述第一激光增益介质(9)和所述第二激光增益介质(10)均为板条介质。

10.一种双波长交替调Q单纵模输出群脉冲激光输出方法，应用于如权利要求1-9任一项所述的激光器中，其特征在于，所述方法包括：步骤S1，第一泵浦源(8)和第二泵浦源(1)分别等间隔泵浦第一激光增益介质(9)和第二激光增益介质(10)；

步骤S2，在所述第一泵浦源(8)和第二泵浦源(1)泵浦增益介质的一个周期内，对电光调Q晶体(16)多次施加和退去阶跃式四分之一波长电压，得到双波长交替调Q单纵模输出单周期群脉冲激光：对电光调Q晶体(16)施加阶跃式四分之一波长电压时，第一路激光谐振腔处于高损耗状态，第二路激光谐振腔处于低损耗状态，第二路激光谐振腔输出第二波长调Q巨脉冲单纵模激光；当对电光调Q晶体(16)退去阶跃式四分之一波长电压时，第二路激光谐振腔处于高损耗状态，第一路激光谐振腔处于低损耗状态，第一路激光谐振腔输出第一波长调Q巨脉冲单纵模激光；

步骤S3，周期性重复所述步骤S1和S2，得到等间隔的双波长交替调Q输出单纵模群脉冲激光。