1.一种芍药苷分子印迹聚合物，其特征在于所述聚合物按如下方法制备：取硅胶，分散在无水乙醇中，然后加入交联剂，功能单体和苯基三甲氧基硅烷，室温振荡30min后，加入芍药苷乙醇溶液，二次蒸馏水，浓HCl，室温下反应4h，过滤，滤饼先用无水乙醇洗涤，干燥，然后用体积比9:1的甲醇－乙酸洗涤至洗涤液在230nm处无紫外吸收，再用甲醇洗涤除去残留的乙酸，最后干燥至恒重，即得到芍药苷分子印迹聚合物；所述交联剂为正硅酸乙酯，所述功能单体为3-氨丙基三乙氧基硅烷。

2.如权利要求1所述芍药苷分子印迹聚合物，其特征在于所述苯基三甲氧基硅烷与交联剂、功能单体物质的量之比为1:1.56:0.86，所述硅胶质量用量以苯基三甲氧基硅烷物质的量计为200g/mmol。

3.如权利要求1所述芍药苷分子印迹聚合物，其特征在于所述乙醇体积用量以苯基三甲氧基硅烷物质的量计为5-20ml/mmol，所述芍药苷乙醇溶液的浓度为0.1mol/L，所述芍药苷乙醇溶液体积用量以苯基三甲氧基硅烷物质的量计为800μl/mmol，所述浓HCl体积用量以苯基三甲氧基硅烷物质的量计为100μl/mmol，所述二次蒸馏水体积用量以苯基三甲氧基硅烷物质的量计为1ml/mmol。

4.如权利要求1所述芍药苷分子印迹聚合物，其特征在于所述硅胶为粒径为40-60μm的球形硅胶。

5.如权利要求1所述芍药苷分子印迹聚合物，其特征在于所述干燥至恒重的条件为：在

60℃条件下真空干燥至恒重。

6.一种权利要求1芍药苷印迹聚合物在富集芍药苷中的应用。

7.如权利要求6所述的应用，其特征在于所述的应用方法为：将芍药苷分子印迹聚合物加入芍药花提取液中，在60℃、40Hz下超声吸附2h，取样在4000rmp下离心20min，取上清液即为富集芍药苷的溶液。

8.如权利要求7所述的应用，其特征在于所述芍药花提取物制备方法：选择干燥的芍药花，捣碎，研磨成粉末；取芍药花粉末，用纯净水浸没，25℃、30Hz下超声提取30min；重复提取3次，过滤，合并滤液，得到芍药花的水提取液；在芍药花的水提取液中加入二氯甲烷萃取，获得上层水相和下层有机相，下层有机相重复萃取3次，收集起三次萃取的水溶液，下层有机相再加入乙酸乙酯萃取，获得下层水相和上层有机相，上层有机相同样重复萃取3次，收集3次萃取的下层水相；最后将二氯甲烷萃取的水相和乙酸乙酯萃取的水相合并，用旋转蒸发仪温度设置为60℃进行旋干，得到芍药花的提取物；取芍药花提取物用甲醇溶解，即芍药花提取液；所述纯净水体积用量以芍药花粉末重量计为5ml/g。