1.釉下彩日用瓷的制备工艺，其特征在于：所述日用瓷包括坯体和釉料，所述坯体包括以下重量份原料：钙长石15-18份、伊利石25-30份、石英30-40份、硅灰石12-15份、海泡石8-

10份、蛭石粉5-8份、赤玉土3-5份、氯化镁1-3份、氧化钛1.8-2.5份、碳酸锶0.8-1.2份、氧化锡0.5-0.8份；

所述釉料包括以下重量份的原料：熔块30-40份、叶腊石8-10份、高岭土15-22份、石英

20-25份、硅酸锆5-8份、蛤粉4-8份、氧化钴3-5份、钛白粉1-3份、磷酸钙1-2份、氧化钡0.5-

0.8份；

所述熔块的化学百分含量为：SiO2：58-65％、Al2O3：13-16％、MgO：2-4％、Na2O：6-8％、CaCO3：5-8％、La2O3：4.7-5.2％、SnCl2:1-2％、TiO2：0.5-0.7％、SrCO3：0.3-0.6％；

其制备工艺包括以下步骤：

(1)将坯体的原料按其配比称重后，混合破碎，过筛后，湿球磨制得泥料；

(2)将釉料的原料按其配比称重后，经破碎机破碎，过筛后，湿球磨制得釉料；

(3)将步骤(2)制得的釉料经过磁选机多次除铁至釉料中的铁含量低于0.05％；

(4)将泥料进行除气、陈泥后，干燥制成粗坯；

(5)将坯体经过粗修、细修、精修后得精坯；

(6)将制得的精坯放入窑炉中煅烧，煅烧温度720-780℃、煅烧周期3-4小时，制得素坯；

(7)在素坯上彩绘图案，然后将制得的釉料施加在彩绘后的素坯上，放入窑炉中，升温至880-920℃，在氧化的氛围下烧结3.2-3.8h，然后继续升温至1020-1060℃，在还原气氛下烧结4-4.5h，得到所述日用瓷。

2.根据权利要求1所述的釉下彩日用瓷的制备工艺，其特征在于：所述步骤(1)中，泥料湿球磨时，按质量比料：球：水＝1:1.2-1.5:1-1.2，湿球磨24-28h。

3.根据权利要求1所述的釉下彩日用瓷的制备工艺，其特征在于：所述步骤(2)中，釉料湿球磨时，按质量比料：球：水＝1:1.6-2:1.2-1.5，湿球磨32-36h。

4.根据权利要求1所述的釉下彩日用瓷的制备工艺，其特征在于：所述釉料的施釉方式为喷釉。

5.根据权利要求1所述的釉下彩日用瓷的制备工艺，其特征在于：所述釉料的施釉厚度为0.08-0.12mm。

6.根据权利要求1所述的釉下彩日用瓷的制备工艺，其特征在于：所述步骤(3)中磁选机的磁场强度为19000-21000GS。

7.根据权利要求1所述的釉下彩日用瓷的制备工艺，其特征在于：所述步骤(4)中，泥料除气后，陈泥7-9天后，再干燥制成粗坯。