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专利号: 2019104627908
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 磨削;抛光
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.微超声阵列球体发射仿形恒力研抛方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1、制作微超声研抛模:所述研抛模包括工具连杆、恒力装置、球模导向板、球体,工具连杆包括上端变幅杆与下端工具头,变幅杆的上端与细微超声振动装置相连接,所述工具连杆的下端工具头的端面上加工有数量为a×b微半球凹模阵列,工具头下端与球模导向板相连接,单个凹模的直径大于或等于发射球体直径,在工件放置台装有实时监控的恒力装置,S2、导向板上有n×m的阵列孔,孔数大于研抛模的凹模数,孔径大于球体直径,球体水平方向的运动被所述导向板限制,球体做研抛模与工件之间的Z轴方向的运功或者沿着自身球心转动;

S3、在研抛模与工件表面之间充满研抛液,研抛液中的磨粒为纳米级复合颗粒,研抛模在导向板上表面的上方0至几毫米的距离内做高频微细超声振动,超声振动激发球提与磨粒高速冲击工件表面,形成微半球凹坑。

2.如权利要求1所述的微超声阵列球体发射仿形恒力研抛方法,其特征在于,所述球模导向板的固定方法如下:导向板通过亲脂疏水类粘结剂的固定在工件上,通过粘结剂的厚度来确定导向板与工件之间的距离。

3.如权利要求1-2所述的微超声阵列球体发射仿形恒力研抛方法,其特征在于,研抛液通过5%光亮剂、5%磨粒、5%稳定剂与分散剂,1%凡士林84%煤油配置,研抛液中的磨粒为基于纳米粒子的复合磨粒。

4.如权利要求1所述的微超声阵列球体发射仿形恒力研抛方法,其特征在于,S3中采用多域可控的方法限制空化泡的产生。

5.如权利要求1所述的微超声阵列球体发射仿形恒力研抛方法,其特征在于,所述球体为自由球体,球体不与导向板、研抛模和工件固定,所述球体为硬质塑性球体。可以是合金钢、特种钢等。

6.如权利要求4所述的微超声阵列球体发射仿形恒力研抛方法,其特征在于,采用调节超声波频率与强度、改变研抛液的粘度与温度对空化泡产生进行限制。

7.如权利要求1所述的微超声阵列球体发射仿形恒力研抛方法,其特征在于,所述工件的固定方式为:通过石蜡将工件固定在工件放置台上。