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专利号: 2019104627931
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 磨削;抛光
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.陶瓷材质上芬顿辅助的旋转超声高效抛光法,其特征在于:S1、配置芬顿液将其和研磨液混合成研抛液,将研抛液均匀滴加在工件表面拟加工位置;

S2、超硬陶瓷球体被限制在铝合金导向基板上固定于旋转工具头前端,芬顿液将碳化硅工件氧化成二氧化硅,旋转超声工具头在纵向高频震动的同时在水平面上高速旋转,通过激发芬顿液中的磨粒,依靠磨粒对衬底材料的机械冲击、剪切、抛磨、加工液的空化现象去除材料;同时利用旋转运动保证形状精度;

S3、通过控制加工参数实现多级研磨;

预装超硬陶瓷球体,在导向基板和超硬陶瓷球体间添加粘结剂,再使用Z向进给使得超硬陶瓷球体向下运动进而获得同一水平面上的超硬陶瓷球体;

在未加工碳化硅表面区域涂覆高聚合物薄膜;

所述多级研磨包括三级,第一级研磨为粗加工,控制超声频率为20kHz‑50kHz,振幅为

10μm‑50μm,旋转速度为800r/min‑1200r/min,高频高振幅振动的超硬陶瓷球体激发激发磨粒将大块材料去除,得到半球凹模;

第二级研磨为精加工,控制超声频率为6kHz‑20khz,振幅为0.3μm‑3μm,旋转速度为

800r/min‑1200r/min,超硬陶瓷球体激发的磨粒由之前的脆性破坏转变成塑性加工,得到表面粗糙度为20nm

第三级为表面加工环节,停止旋转声工具头的纵向振动,旋转控制装置控制旋转速度为1200r/min‑2000r/min,得到的表面粗糙度Sa<20nm的半球凹模。

2.如权利要求1所述的陶瓷材质上芬顿辅助的旋转超声高效抛光法,其特征在于:通过芬顿液将碳化硅脆化。

3.如权利要求1所述的陶瓷材质上芬顿辅助的旋转超声高效抛光法,其特征在于:未加工碳化硅表面区域涂覆一层聚乙烯薄膜。