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专利号: 2019104633909
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 磨削;抛光
更新日期:2023-08-24
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.芬顿辅助复合杆微超声球体制备半球凹模阵列方法,其特征在于,包括变幅杆、微型超声发生器和工具头,变幅杆上端连接微型超声发生器,变幅杆下端连接可更换的工具头;

在工具头底部设有多层镀层或镀一层0.05mm-3mm的超硬耐磨的涂层,若涂层材料是金刚石,先采用金刚石砂轮对工具底部涂层进行磨削,将涂层表面磨成平面,再采用化学机械抛光的方法对涂层表面抛光,降低涂层表面粗糙度,之后在工具头底部涂层厚度范围内加工微半球凹模阵列,阵列为m*n、m*1或n*n规格,其中,m、n均为自然数,凹模深度小于涂层厚度,半球凹模直径大于等于用于超声发射的球体直径;

工具涂层、半球凹模、球体、导向板和工件间设有研抛液,研抛液中加入羟基自由基浓度约为0.1-0.2mol/L的芬顿试剂。

2.如权利要求1所述的芬顿辅助复合杆微超声球体制备半球凹模阵列方法,其特征在于,工具头的下方布置导向板,导向板上有s*t(s>=m,t>=n)孔阵列,孔径大于等于球体直径。

3.如权利要求2所述的芬顿辅助复合杆微超声球体制备半球凹模阵列方法,其特征在于,依据待加工微半球凹模阵列深度选择发射球体直径,球径范围为0.1mm-5mm,每个球体被导向板限制X向和Y向运动,Z方向运动被工具头和工件所限制,球体可以自由转动。

4.如权利要求1所述的芬顿辅助复合杆微超声球体制备半球凹模阵列方法,其特征在于,研抛液所含磨粒的平均粒径范围为几十纳米至几微米,磨粒制备过程如下:用硝酸铈配成溶液,与氧化铝磨粒共同引入球磨机进行超细化处理,干燥后再高温焙烧的方法,制备出以氧化铝为内核,以含有三价铈的氧化铈为外壳的氧化铝-氧化铈核/壳复合磨粒。

5.如权利要求1所述的芬顿辅助复合杆微超声球体制备半球凹模阵列方法,其特征在于,在非加工区域的工件上覆盖耐氧化保护膜。