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专利号: 2019106239911
申请人: 长春理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 测量;测试
更新日期:2024-02-26
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种波前测量设备,其特征在于,包括:

激光器;

光处理模块,用于接收所述激光器发射的光线,并将所述光线分别反射形成参考光和待测光,且所述参考光和所述待测光相叠加形成叠加光;

检测模块,用于接收所述叠加光,并检测所述参考光与所述待测光的光路重合度;

哈特曼波前测量模块,用于接收所述叠加光,并通过哈特曼波前处理算法处理得出所述叠加光的波前误差;

干涉波前测量模块,用于接收所述叠加光,并对所述叠加光的干涉条纹图进行处理得出所述叠加光的波前误差。

2.根据权利要求1所述的波前测量设备,其特征在于,所述波前测量设备还包括第一分光镜、第二分光镜和第三分光镜;

所述第一分光镜与所述激光器发射的光线呈锐角设置,用于将所述激光器发射的光线反射于所述第二分光镜,或将所述第二分光镜反射的光线透射于所述第三分光镜;

所述第二分光镜与所述第一分光镜反射的光线呈锐角设置,用于将所述第一分光镜反射的光线反射于所述光处理模块,或将所述光处理模块反射的光线部分反射于所述第一分光镜和部分透射于所述检测模块;

所述第三分光镜与所述第一分光镜透射的光线呈锐角设置,用于将所述第一分光镜透射的光线部分反射于所述哈特曼波前测量模块和部分透射于所述干涉波前测量模块。

3.根据权利要求2所述的波前测量设备,其特征在于,所述光处理模块包括沿光线入射所述光处理模块的方向依次设置的标准镜和待测镜;

所述标准镜用于将所述第二分光镜反射的光线部分反射形成所述参考光,和将所述第二分光镜反射的光线部分透射于所述待测镜;

所述待测镜用于将所述标准镜透射过来的光线反射形成所述待测光,且所述待测光和所述参考光相叠加形成叠加光。

4.根据权利要求3所述的波前测量设备,其特征在于,所述待测镜与所述标准镜之间形成自准直光路,且所述待测镜能够调整与所述标准镜的相对位置关系,以调节所述参考光与所述待测光的光路重合度。

5.根据权利要求3所述的波前测量设备,其特征在于,所述光处理模块还包括准直镜;

沿光线入射所述光处理模块的方向,所述准直镜设置于所述标准镜的前方,用于将所述第二分光镜反射的光线准直并透射于所述标准镜。

6.根据权利要求2所述的波前测量设备,其特征在于,所述检测模块包括沿光线入射所述检测模块的方向依次设置的凸透镜和第一探测器;

所述凸透镜用于将所述叠加光会聚透射于所述第一探测器;

所述第一探测器用于检测所述参考光与所述待测光的光路重合度。

7.根据权利要求6所述的波前测量设备,其特征在于,所述波前测量设备还包括反光镜;

沿光线入射所述检测模块的方向,所述反光镜设置于所述凸透镜的前方并与所述第二分光镜透射的光线呈锐角设置,用于将所述第二分光镜透射的光线反射于所述凸透镜。

8.根据权利要求2所述的波前测量设备,其特征在于,所述哈特曼波前测量模块包括沿光线入射所述哈特曼波前测量模块的方向依次设置的微透镜阵列、第二探测器和第一图像处理系统;

所述微透镜阵列用于将所述第三分光镜反射的光线处理生成焦点阵列图;

所述第二探测器设置于所述微透镜阵列的焦面处,用于探测采集所述焦点阵列图的图像信息,并输送至所述第一图像处理系统;

所述第一图像处理系统用于接收并处理所述图像信息得出波前误差。

9.根据权利要求8所述的波前测量设备,其特征在于,所述哈特曼波前测量模块还包括透镜组;

沿光线入射所述哈特曼波前测量模块的方向,所述透镜组设置于所述微透镜阵列的前方,用于将所述第三分光镜反射的光线准直并透射于所述微透镜阵列。

10.根据权利要求2所述的波前测量设备,其特征在于,所述干涉波前测量模块包括沿光线入射所述干涉波前测量模块的方向依次设置的成像系统、第三探测器和第二图像处理系统;

所述成像系统用于将所述第三分光镜透射的光线处理生成干涉条纹图;

所述第三探测器设置于所述成像系统的像面处,用于探测采集所述干涉条纹图的图像信息,并输送至所述第二图像处理系统;

所述第二图像处理系统用于接收并处理所述图像信息得出波前误差。