1.一种单分子计数检测基因组中DNA损伤的荧光化学传感器，其特征在于，所述荧光化学传感器至少包括末端转移酶、生物素化的双脱氧核苷酸、生物素化的核苷酸、荧光标记的核苷酸、DNA糖基化酶和AP内切核酸酶1。

2.如权利要求1所述的荧光化学传感器，其特征在于，所述DNA糖基化酶与待测DNA损伤具体类型相对应；

优选的，

当检测8-oxoG引起的DNA损伤时，所述DNA糖基化酶为甲酰胺嘧啶DNA糖基化酶；

当检测尿嘧啶引起的DNA损伤时，所述DNA糖基化酶为尿嘧啶DNA糖基化酶；

当检测脱氧肌苷引起的DNA损伤时，所述DNA糖基化酶为人类烷基腺嘌呤DNA糖基化酶。

3.如权利要求1所述的荧光化学传感器，其特征在于，所述荧光化学传感器还包括链霉抗生物素蛋白包被的磁珠。

4.如权利要求1所述的荧光化学传感器，其特征在于，所述DNA损伤包括孤立的损伤位点和聚集的损伤位点。

5.基于权利要求1-4任一项所述荧光化学传感器检测基因组中DNA损伤的方法，所述方法包括：S1、向待测物中加入生物素化的双脱氧核苷酸和末端转移酶进行孵育，然后加入链霉抗生物素蛋白包被的磁珠进行分离；

S2、加入DNA糖基化酶和AP内切核酸酶1进行孵育处理；

S3、加入生物素化的核苷酸和末端转移酶进行孵育处理；

S4、向分离的生物素化的DNA链中加入荧光核苷酸和末端转移酶避光孵育处理，经磁分离和外切酶消化，进行单分子成像。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述步骤S1中，孵育具体条件为：35～40℃(优选37℃)下孵育处理0.5～1.5小时(优选为1小时)。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所所述步骤S2中，DNA糖基化酶与待测DNA损伤具体类型相对应；

孵育具体条件为：35～40℃(优选37℃)下孵育处理0.5～1.5小时(优选为1小时)。

8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述步骤S3中，孵育具体条件为：35～40℃(优选37℃)下孵育处理0.4～1小时(优选为0.5小时)。

9.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述步骤S4中，避光孵育具体条件为：35～40℃(优选37℃)下孵育处理0.5～1.5小时(优选为1小时)；

优选的，所述荧光核苷酸为Cy5修饰的ddUTP；

优选的，所述外切酶为Exo I；

优选的，所述单分子成像为全内反射荧光单分子成像，640nm激光用于激发Cy5分子，对Cy5分子进行计数从而实现对DNA损伤的定量检测。

10.权利要求1-4任一项所述荧光化学传感器和/或权利要求5-9任一项所述检测方法在DNA损伤检测中的应用。