1.一种晶体高质量快速生长控制方法，其特征在于，该方法是通过晶体生长系统实现的，所述的晶体生长系统包括生长装置、控制装置和基于视觉的尺寸检测装置；生长装置包括带夹套的育晶罐、测量育晶罐中生长溶液温度的热电阻、安装在育晶罐内的载晶架、带动载晶架正反转动的直流伺服电机、安装在育晶罐夹套内的电加热器；控制装置包括PLC、触摸屏、直流伺服驱动器、输入输出接口、计时器；基于视觉的尺寸检测装置包括光源、相机和计算机；所述的一种晶体高质量快速生长控制方法，具体包括以下步骤：(1)育晶罐中装入生长溶液，晶核放到载晶架上后，晶体生长系统进入运行准备状态，在触摸屏上进行初始设定值的设定：生长溶液温度TEM(0)，单位为℃，二位小数；生长溶液温度上限TEMmax，生长溶液温度下限TEMmin；生长溶液降温速率ΔTEM(0)，单位为℃/小时，二位小数；生长溶液降温速率上限ΔTEMmax，生长溶液降温速率下限ΔTEMmin；晶体比生长速率E(0)，单位为％，二位小数，晶体比生长速率上限Emax，晶体比生长速率下限Emin；晶体比体积生长速率F(0)，单位为％，二位小数，晶体比体积生长速率上限Fmax，晶体比体积生长速率下限Fmin；晶体总高度H1(0)、晶体的下半部立方体的高度H2(0)和宽度D(0)，单位为mm，一位小数；生长晶体的表面积S(0)，单位为mm2，二位小数；生长晶体的体积V(0)，单位为mm3，二位小数；k是自然数，代表离散时刻，k∈[0,7200]；(2)晶体生长系统进入自动运行状态，计时器T开始计时；(3)PLC控制直流伺服电机带动载晶架以每分钟n1转的速度顺时针旋转N1圈，然后停止T1秒，再以每分钟n2转的速度逆时针旋转N2圈，停止T2秒；以此方法顺时针旋转、停止、逆时针旋转、停止，循环运行，使生长溶液与晶核充分接触；顺时针旋转、停止和逆时针旋转、停止时通过基于视觉的尺寸检测装置在线检测晶体的尺寸：总高度H1(k)、晶体的下半部立方体的高度H2(k)和宽度D(k)，单位为mm，一位小数；PLC检测生长溶液的温度，通过控制育晶罐夹套内的电加热器先加热夹套中的水，再通过罐壁热交换使育晶罐内生长溶液的温度控制为TEM(k)，控制精度为±0.01℃；计算k时刻生长晶体的表面积TEM(k)＜ΔTEMmin则ΔTEM(k)＝ΔTEMmin，转到步骤(8)；不成立则转到步骤(8)；(8)判断E(k)≤Emin是否成立，成立则当Δ

TEM(k)＞ΔTEMmax则ΔTEM(k)＝ΔTEMmax，转到步骤(9)；不成立则转到步骤(9)；(9)判断F(k)≥Fmax是否成立，成立则当Δ

TEM(k)＜ΔTEMmin则ΔTEM(k)＝ΔTEMmin，转到步骤(10)；不成立则转到步骤(10)；(10)判断F(k)≤Fmin是否成立，成立则当Δ

TEM(k)＞ΔTEMmax则ΔTEM(k)＝ΔTEMmax，转到步骤(11)；不成立则转到步骤(11)；(11)计时器T清零，TEM(k+1)＝TEM(k)-ΔTEM(k)，k＝k+1，计时器T开始计时；转到步骤(3)；(12)晶体生长结束。