1.一种基于表面等离激元格点共振的光学器件，包括基底介质板(1)以及沉积于所述基底介质板(1)上的纳米结构单元阵列，坐标轴设定为x方向与y方向垂直，且两者平行于所述基底介质板(1)，z方向垂直于所述基底介质板(1)，其特征在于，所述纳米结构单元由从下往上依次设置的底层金属柱(2)、中层介质柱(3)和顶层金属柱(4)紧贴叠加构成；

所述底层金属柱(2)、所述中层介质柱(3)和所述顶层金属柱(4)平行于所述基底介质板(1)的截面形状相同；

所述底层金属柱(2)、所述中层介质柱(3)和所述顶层金属柱(4)的长度和宽度均相等；

所述底层金属柱(2)和所述顶层金属柱(3)的材料相同；

所述纳米结构单元沿x方向与y方向以相同的周期均匀排布在所述基底介质板(1)上，介质层(5)覆盖于所述纳米结构阵列上；

所述中层介质柱(3)厚度变化范围为100nm～300nm。

2.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述介质层(5)的折射率不同于所述基底介质板(1)的折射率。

3.根据权利要求2所述的光学器件，其特征在于：所述介质层(5)的折射率为1.00‑

1.52。

4.根据权利要求2所述的光学器件，其特征在于：所述介质层(5)为水、溶液或者空气。

5.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述基底介质板(1)的材料为硅、二氧化硅或者玻璃。

6.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述底层金属柱(2)和所述顶层金属柱(4)的材料为金、银或者铝，所述中层介质柱(3)的材料为二氧化硅。

7.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述底层金属柱(2)、所述中层介质柱(3)和所述顶层金属柱(4)平行于所述基底介质板(1)的截面形状为正方形。

8.根据权利要求7所述的光学器件，其特征在于：所述底层金属柱(2)和所述顶层金属柱(4)厚度变化范围为100nm～250nm，宽度和长度变化范围为60nm～100nm。

9.根据权利要求7或8所述的光学器件，其特征在于：所述中层介质柱(3)宽度和长度变化范围为60nm～100nm。

10.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述周期的变化范围为300nm～

600nm。