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专利号: 2019107619547
申请人: 聊城大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 测量;测试
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种光学参数感测暨调制系统,其特征在于,包含一多芯光纤以及分别连接于该多芯光纤两端的一光源以及一光谱分析仪,该光源输出光至该多芯光纤,使该光谱分析仪测得光通过该多芯光纤于各波长的穿透损失响应。

2.如权利要求1的光学参数感测暨调制系统,其特征在于,该多芯光纤包含一中心光纤以及多个环绕于该中心光纤的卫星光纤,于一拉锥制程后形成強耦合状态并露出渐逝场。

3.如权利要求1或2所述光学参数感测暨调制系统,其特征在于经研磨、蚀刻等方法漏出渐逝场。

4.如权利要求1或2所述光学参数感测暨调制系统,其特征在于多芯光纤渐逝场外部加结构,选自一高分子聚合物、一双折射物质、一光子晶体物质、一等离子体物质、一光吸收物物质、一光非线性物质、一生物物质、一金属物质、一光增益物质、一液晶、一光二维材料、一色散材料、一电磁敏感物质、一半导体材料、一热敏物质或一声光物质。

5.如权利要求1或2所述光学参数感测暨调制系统,其特征在于多芯光纤渐逝场表面刻蚀结构,选自一光子晶体结构、一周期结构、一啁啾结构、一分布反馈式结构或一法珀腔结构。

6.如权利要求3所述光学参数感测暨调制系统,其特征在于多芯光纤渐逝场外部加结构,选自一高分子聚合物、一双折射物质、一光子晶体物质、一等离子体物质、一光吸收物物质、一光非线性物质、一生物物质、一金属物质、一光增益物质、一液晶、一光二维材料、一色散材料、一电磁敏感物质、一半导体材料、一热敏物质或一声光物质。

7.如权利要求3所述光学参数感测暨调制系统,其特征在于多芯光纤渐逝场表面刻蚀结构,选自一光子晶体结构、一周期结构、一啁啾结构、一分布反馈式结构或一法珀腔结构。

8.如权利要求2所述光学参数感测暨调制系统,其特征在于中心纤芯与某一卫星纤芯同时打入相干光,形成干涉仪。

9.如权利要求2所述光学参数感测暨调制系统,其特征在于该多芯光纤形成一共振腔,使该光学参数感测暨调制系统为一光传感器。

10.如权利要求2所述光学参数感测暨调制系统,其特征在于该多芯光纤的有效折射率改变,使光学参数感测暨调制系统为调谐滤波器。