1.利用牵引式氮等离子体增强反应气氛环境制备Ti-Al-N 硬质薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、衬底清洗：选取单晶硅片和不锈钢片作为衬底，在丙酮和酒精中分别超声清洗，后烘干，烘干后放置于溅射腔室内部上方的衬底托盘中，将腔室本底抽真空，通入 Ar 气电离，在 Ar 离子作用下对衬底表面进行离子清洗；

步骤二、选取Ti/Al 合金靶，放置在衬底托盘下方垂直于衬底表面的直流靶托上；

步骤三、Ti-Al 合金层的制备：利用 Ar 离子直流溅射沉积 Ti-Al 合金层作为 Ti-Al-N 薄膜与衬底间的缓冲层；

步骤四、氮等离子体的获得：将高纯氮气通入射频感应耦合离子源中，在射频感应耦合的作用下，氮气分子发生电离形成氮等离子体，在射频源端口处的加速/减速电栅的牵引作用下形成致密的氮等离子束注入到溅射腔室中；

步骤五、Ti-Al-N 薄膜的沉积：引入的氮等离子参与直流溅射沉积制备Ti-Al-N 硬质薄膜。

2.根据权利要求1所述的利用牵引式氮等离子体增强反应气氛环境制备Ti-Al-N 硬质薄膜的方法，其特征在于：步骤一中所述单晶硅片的晶向为100。

3.根据权利要求1所述的利用牵引式氮等离子体增强反应气氛环境制备Ti-Al-N 硬质薄膜的方法，其特征在于：步骤一中所述超声清洗时间为15min。

4.根据权利要求1所述的利用牵引式氮等离子体增强反应气氛环境制备Ti-Al-N 硬质薄膜的方法，其特征在于：步骤一中所述腔室本底抽真空后压力小于等于 1×10-4Pa。

5.根据权利要求1所述的利用牵引式氮等离子体增强反应气氛环境制备Ti-Al-N 硬质薄膜的方法，其特征在于：步骤一中所述离子清洗时间为3min。

6.根据权利要求1所述的利用牵引式氮等离子体增强反应气氛环境制备Ti-Al-N 硬质薄膜的方法，其特征在于：步骤二中所述Ti/Al 合金靶为纯度为99.99%以上的 Ti/Al 合金靶，其中Ti与Al的原子比为1:1。

7.根据权利要求1所述的利用牵引式氮等离子体增强反应气氛环境制备Ti-Al-N 硬质薄膜的方法，其特征在于：步骤四中所述高纯氮气的浓度为99.999%以上，氮气气流为5~

25sccm，所述射频感应耦合离子源的射频源功率为50W。

8.根据权利要求1所述的利用牵引式氮等离子体增强反应气氛环境制备Ti-Al-N 硬质薄膜的方法，其特征在于：步骤五中，进行直流溅射沉积时，氩气流量为15sccm，直流溅射电流为0.4A，溅射腔室总气压为0.5Pa，溅射时间为1.5h。