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专利号: 201910825938X
申请人: 浙江理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 一般的物理或化学的方法或装置
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种新型熔融缩聚反应器,包括封头(1)、物料室(2)、与物料室下端相连的立式壳体(4),以及热媒管路系统和底壳(7),反应器设有进料管(11)、物料出口(71)和真空脱气口(43),物料室与进料管(11)连通;其特征在于:所述立式壳体(4)内部垂直设置有至少一片降膜元件,所述降膜元件是具有板结构的板式降膜元件(8),其板结构上设有敞开式内凹竖直降膜流道(81);板式降膜元件(8)垂直安装,物料室的底板上设有对应降膜流道(81)的布膜孔(211);板式降膜元件(8)内侧设置有热媒管路系统的元件内热媒管路(51)。

2.如权利要求1所述的一种新型熔融缩聚反应器,其特征在于:降膜流道内凹深度(H)为2~100mm,开口距离(L)为5~100mm;板式降膜元件(8)在元件内热媒管路(51)的两侧都设有板结构,元件内热媒管路紧贴降膜元件(8)的两侧板结构的内侧壁面;两侧的板结构至少各有一条降膜流道(81),多条降膜流道平行排列。

3.如权利要求1所述的一种新型熔融缩聚反应器,其特征在于:所述物料室(2)的底板为布膜板(21)且设有所述布膜孔(211),紧邻布膜板下方垂直设置有至少一片板式降膜元件(8),板式降膜元件上的每条降膜流道(81)均至少各分配有一个布膜孔。

4.如权利要求3所述的一种新型熔融缩聚反应器,其特征在于:所述降膜流道(81)所属布膜孔(211)为一个时,布膜孔位于降膜流道内凹壁面中心处;每条降膜流道(81)所属的布膜孔(211)为多个时,布膜孔沿降膜流道内凹壁面中心线对称分布于降膜流道内凹壁面处。

5.如权利要求4所述的一种新型熔融缩聚反应器,其特征在于:布膜孔内壁与各降膜流道壁面之间的最小距离小于5mm。

6.如权利要求1或2所述的一种新型熔融缩聚反应器,其特征在于:所述板式降膜元件(8)内部设有热媒循环传热路径,元件内热媒管路(51)穿过物料室(2)与上端封头(1)相连;

热媒从热媒入口流入反应器,经元件内热媒管路流入最上端封头,最后经由封头处热媒出口流出;元件内热媒管路(51)紧贴降膜流道(81)内侧壁面并进行热媒循环流动。

7.如权利要求1所述的一种新型熔融缩聚反应器,其特征在于:所述封头(1)、物料室(2)、立式壳体(4)、底壳(7)和热媒管路系统均垂直安装并由法兰紧固件连接;立式壳体(4)上端设置所述真空脱气口(43),立式壳体(4)外围装有塔体夹套(3),塔体夹套(3)的上端和下端分别设有塔体夹套热媒出口(32)和塔体夹套热媒入口(31)。

8.如权利要求1所述的一种新型熔融缩聚反应器,其特征在于:所述底壳(7)为锥型,底壳外围装有底壳夹套(6),底壳夹套的上端和下端分别设有底壳夹套热媒出口(62)和底壳夹套热媒入口(61)。

9.如权利要求1所述的一种新型熔融缩聚反应器,其特征在于:所述底壳(7)底部设置有出料口(71)用于出料。