1.一种具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法，其步骤为：

步骤1、采用高纯气体对可牺牲性基底吹1～10min，去除该可牺牲性基底表面的杂质；

步骤2、在上述的可牺牲性基底上采用离子束溅射技术镀制SiO2；本底真空度为9×10-5～8×10-4Pa，烘烤温度为50～250℃，充氧压为1×10-2～1×10-1Pa，溅射源的氩气流量为1～100mL/min，射频中和器的氩气流量为0.1～50mL/min，辅助源的氩气和氧气的流量比为

0.1～5，溅射前先对Si靶进行清洗，然后开始镀制厚度为1～5000µm的SiO2，该SiO2作为基底；

步骤3、将镀制后的SiO2基底在气氛中进行退火处理，退火温度为100～400℃，升温速率为0.01～20℃/min，保温时间为1～50h；

步骤4、采用常规的物理法镀膜技术在SiO2基底表面沉积薄膜材料，获得相应的光学功能；

步骤5、将上述制备得到的薄膜器件放入去离子水中浸泡0.1～2h，然后在25～400℃的空气气氛中干燥0.5～96h，获得本发明中的具有高损伤阈值的激光薄膜。

2.根据权利要求1所述的具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法，其特征是：所述的高纯气体为纯度大于99%的氩气、氮气、氧气、二氧化碳的任一种或任意多种以任意体积比的混合物。

3.根据权利要求1或2所述的具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法，其特征是：所述的可牺牲性基底为NaF、NaCl、NaI、Na2CO3、NaHCO3或蔗糖C12H22O11。

4.根据权利要求1、2或3所述的具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法，其特征是：所述的退火气氛为氧气、氮气、氩气或空气。

5.根据权利要求1、2、3或4所述的具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法，其特征是：所述的常规的物理法镀膜技术是电子束蒸发镀膜、电阻热蒸发镀膜、磁控溅射镀膜或离子束溅射镀膜，镀膜时的基底烘烤温度为50～350℃，沉积速率为0.1～500nm/min。

6.根据权利要求1、2、3、4或5所述的具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法，其特征是：所述的薄膜材料是ZrO2、HfO2、TiO2、SiO2、Y2O3、Al2O3、Sc2O3、Ta2O5、Nb2O5任一种或任意多种组成的复合膜系。