1.一种基于气相二氧化硅制备原子级分散的金属氮碳材料的方法，其特征在于，所述基于气相二氧化硅制备原子级分散的金属氮碳材料的方法包括以下步骤：步骤一，将含有金属盐与气相二氧化硅按比例加入甲酰胺中，搅拌、超声至完全溶解；

步骤二，将步骤一得到的溶液转移高压反应釜中，设置反应温度及进行反应的时长；

步骤三，将步骤二得到的反应产物经清洗、离心、干燥；

步骤四，将步骤三中干燥后的前驱体置于管式炉中，惰性气氛保护下高温焙烧；

步骤五，将步骤四得到的焙烧后的复合材料用氢氟酸除掉气相二氧化硅，即得到原子级分散的金属氮碳材料。

2.如权利要求1所述的基于气相二氧化硅制备原子级分散的金属氮碳材料的方法，其特征在于，所述金属盐类是Fe、Co、Ni、Mn、Cu、Zn、Mo、Ru、Rh、Pd、Pt、Au、Ir过渡金属的氯化盐、硝酸盐、乙酸盐、乙酰丙酮盐、羰基盐中的一种或多种。

3.如权利要求1所述的基于气相二氧化硅制备原子级分散的金属氮碳材料的方法，其特征在于，所述属盐在甲酰胺中的浓度范围为：0.001-0.01mol L-1；所述的气相二氧化硅在甲酰胺中的浓度范围为10-50g L-1。

4.如权利要求1所述的基于气相二氧化硅制备原子级分散的金属氮碳材料的方法，其特征在于，所述步骤二中，反应釜中的反应温度为160-200℃，反应时间为6-24小时。

5.如权利要求1所述的基于气相二氧化硅制备原子级分散的金属氮碳材料的方法，其特征在于，所述步骤三中，离心管的清洗溶剂为乙醇、水；离心后干燥的温度为60-80℃，干燥时间为10-12小时。

6.如权利要求1所述的基于气相二氧化硅制备原子级分散的金属氮碳材料的方法，其特征在于，所述步骤四中，保护气体为氮气，高温煅烧的温度为900℃，升温速率为5℃每分钟，高温煅烧时间为1小时。

7.一种由权利要求1～6任意一项所述基于气相二氧化硅制备原子级分散的金属氮碳材料的方法制备的金属氮碳材料。

8.一种如权利要求7所述金属氮碳材料在催化氧气还原反应中的应用。