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专利号: 2019110284360
申请人: 江苏晶杰光电科技有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2024-11-19
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种晶圆的清洗方法,其特征在于:包括以下步骤:

S1.首先将晶圆置于真空环境中,然后利用强光对晶圆表面进行照射,照射5-10min之后,关闭光源,将晶圆翻到另一面,继续照射5-10min之后取出;

S2.配置好晶圆清洗液,将晶圆放置于清洗液中,首先让晶圆在清洗液中浸泡15-

30min,然后在使用毛刷对晶圆的表面进行刮刷,反复刮刷3-5次之后取出,然后使用蒸馏水将晶圆的表面冲洗干净;

S3.将晶圆送入到真空箱体中,在真空箱体中设置旋转设备,晶圆置于旋转设备中进行转动,首先往真空箱体中通入适量的氮气,真空箱体中的氮气达到预定值之后,再往真空箱体中通入水蒸气,5-10min之后关闭所有设备,待真空箱体中温度降至40℃以下时,取出箱体内的晶圆;

S4.再次将晶圆送入到真空环境中,然后利用高压水泵以及雾化喷头抽取清洗液并将清洗液进行雾化,使用雾化之后的清洗液对晶圆进行喷淋,3-5min之后取出晶圆,然后使用蒸馏水将晶圆的表面冲洗干净,最后将晶圆进行干燥处理即可。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆的清洗方法,其特征在于:所述清洗液由以下重量份成分组成:去离子水10-12份、磺酸钠3-4份、柠檬酸2-3份、氟化氨1-2份。

3.根据权利要求2所述的一种晶圆的清洗方法,其特征在于:所述清洗液由以下重量份成分组成:去离子水12份、磺酸钠4份、柠檬酸3份、氟化氨2份。

4.根据权利要求2所述的一种晶圆的清洗方法,其特征在于:所述清洗液由以下重量份成分组成:去离子水11份、磺酸钠3.5份、柠檬酸2.5份、氟化氨1.5份。

5.根据权利要求2所述的一种晶圆的清洗方法,其特征在于:所述清洗液由以下重量份成分组成:去离子水10份、磺酸钠3份、柠檬酸2份、氟化氨1份。

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