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专利号: 2019110666651
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.原位制备高能晶面择优的金红石型二氧化钛薄膜的方法,包括以下操作:

制备处理溶液:将盐酸和三氯化钛混合,制得前驱液,再将过氧化氢加入到前驱液,充分混合均匀制成处理溶液,所述的处理溶液中钛离子摩尔浓度是12 24mmol/L;

~

二氧化钛纳米阵列薄膜的沉积处理:将金属基体和处理溶液同时置于容器中,在140~

200℃下反应75min~240min小时,反应结束后将基体取出,经去离子水清洗后,基体表面即可获得二氧化钛薄膜。

2.如权利要求1所述的原位制备高能晶面择优金红石型二氧化钛薄膜的方法,其特征在于:进一步,制备处理溶液步骤中,盐酸的摩尔浓度为2mol/L。

3.如权利要求1所述的原位制备高能晶面择优金红石型二氧化钛薄膜的方法,其特征在于:再进一步,制备处理溶液步骤中,基体为钛合金基体时,过氧化氢的摩尔浓度为25~

176mmol/L,基体为纯钛基体时,过氧化氢的摩尔浓度为15~176mmol/L。

4.如权利要求1所述的原位制备高能晶面择优金红石型二氧化钛薄膜的方法,其特征在于:二氧化钛纳米阵列薄膜的沉积处理步骤中,所述容器为25mL具有聚四氟乙烯内胆的不锈钢反应釜,使用前用去离子水清洗并烘干。

5.如权利要求1所述的原位制备高能晶面择优金红石型二氧化钛薄膜的方法,其特征在于:所述的金属基体为钛/钛合金。

6.如权利要求1所述的原位制备高能晶面择优金红石型二氧化钛薄膜的方法,其特征在于:所述的金属基体在放入容器前需进行预处理;对于纯钛片基体只需简单的酒精和去离子水超声震荡清洗即可;而对于片状钛合金预处理过程为:用粒度2000#SiC砂纸抛光,放在丙酮,酒精,去离子水中各自超声清洗15min,取出待用;而对于3D打印三维网格状钛/钛合金预处理的过程为:在80℃下放入盐酸:硫酸:水=1:1:2的混合溶液,超声酸洗30min, 然后在常温下放入氢氟酸:硝酸:水=2:25:50的混合溶液酸洗5min,最后用酒精超声清洗3~4次,取出清洗待用。