1.一种表面改性的纳米氧化锆陶瓷粉粒的制备系统，

所述制备系统至少包括用于细化反应原料的第一细化设备(1)以及用于对反应原料进行改性的改性设备(2)，

其特征是，

所述第一细化设备(1)上开设有第一气流通道(3)，其中，

所述第一气流通道(3)被配置为允许第一外界气流能够以捕集位于第一细化设备(1)内的经过至少一次细化后的反应原料的方式，筛分出所述反应原料中的彼此细化程度不同的第一部分原料和第二部分原料，所述第一外界气流继而将所述第一部分原料从所述第一细化设备(1)的第一腔室(4)扩散至所述第一细化设备(1)的第二腔室(5)，所述第一外界气流同时尝试将所述第二部分原料从所述第一腔室(4)朝向靠近所述第二腔室(5)的方向扩散，以此所述第一细化设备(1)能够通过利用所述第一外界气流对彼此细化程度不同的部分原料以不同流动路径的方式同步进行细化处理，以将由所述第二腔室(5)导出的符合粒径筛分条件的反应原料输出至所述改性设备(2)进行改性。

2.根据权利要求1所述的制备系统，其特征是，所述反应原料还包括粒径大小介于所述第一部分原料的粒径与所述第二部分原料的粒径之间的第三部分原料，其中，所述第一气流通道(3)还被配置为允许所述第一外界气流借助于所述第二内壁对所述第一部分原料和/或所述第二部分原料进行筛分，以获得所述第三部分原料以及所述第二部分原料被筛分后得到的第四部分原料，并使得所述第三部分原料能够借助于外界输送泵的泵送作用沿第二气流通道(14)返回所述第二腔室(5)，继而在其自身重力作用下与所述反应原料和/或所述第四部分原料共同沿所述第一腔室(4)向下移动以进一步的细化，从而所述第一细化设备(1)能够以设备能量损耗最小化的方式对所述反应原料进行细化。

3.根据前述权利要求之一所述的制备系统，其特征是，所述第一细化设备(1)中设置有研磨平台(8)和至少一个研磨辊(9)，至少一个所述研磨辊(9)能够通过彼此动作配合的方式对位于所述研磨平台(8)上的且彼此流动路径不同的所述反应原料进行不同程度的细化，其中，至少一个所述研磨辊(9)是按照彼此之间能够构成两端分别与所述第二腔室(5)和所述研磨平台(8)相贯通的原料流空间(10)的方式布置于所述第一细化设备(1)上，以使得所述反应原料、所述第三部分原料、所述第二部分原料被所述第一外界气流筛分后所得到的第四部分原料中的一个或几个能够通过该原料流空间(10)进入所述研磨平台(8)进行细化。

4.根据前述权利要求之一所述的制备系统，其特征是，所述第一细化设备(1)至少包括设备壳体(11)和悬空设置于所述设备壳体(11)上的漏斗状导入腔(12)，所述漏斗状导入腔(12)用于将反应原料的入口对准所述研磨平台(8)，所述漏斗状导入腔(12)的外壁为所述第一细化设备(1)的第二内壁，其中，通过所述第一气流通道(3)的部分所述第一外界气流的流动路径至少包括所述漏斗状导入腔(12)的外壁的延伸方向，以此使得被所述第一外界气流所夹携的至少部分反应原料在所述流动路径的延伸方向上分别地转换为所述第一部分原料、所述第二部分原料、所述第三部分原料、所述第四部分原料中的一个或几个的组合。

5.根据前述权利要求之一所述的制备系统，其特征是，所述设备壳体(11)上与所述第二内壁相对应的位置处为所述第一细化设备(1)的第三内壁(13)，其中，所述第一部分原料在被所述第一外界气流筛分后所得到的第四部分原料，在自身重力与由第一外界气流的分流提供的气动力所共同构成的合力作用下，以其避免被所述第一外界气流的主流再次夹携的方式沿所述第三内壁(13)进入第二气流通道(14)并借助于外界输送泵的泵送作用与位于第二气流通道(14)内的第二外界气流一起返回所述第二腔室(5)。

6.根据前述权利要求之一所述的制备系统，其特征是，所述制备系统至少包括设置于所述设备壳体(11)外部而与其内部相隔离的监测系统(16)，其中，

所述监测系统(16)被配置为通过设置于所述设备壳体(11)上的且两端分别与所述设备壳体(11)内外环境相连通的第三气流通道(15)，以所述第三气流通道(15)与设置于所述研磨辊(9)端部上的凸起(17)相互配合使用的方式，在所述研磨辊(9)执行转动细化操作的情况下对所述研磨辊(9)的运作数据进行监测，或是在所述研磨辊(9)未执行细化操作的情况下对所述研磨辊(9)的位置数据进行检测。

7.根据前述权利要求之一所述的制备系统，其特征是，所述第三气流通道(15)被配置为其一端朝向靠近所述凸起(17)且不与所述凸起(17)相接触的位置延伸，从而使其能够以所述凸起(17)位于所述研磨辊(9)端部的偏心位置上的方式，在所述凸起(17)被带动着与所述研磨辊(9)一起周向转动时，与所述凸起(17)间歇式相互对准，并以此使得所述监测系统(16)能够在持续向所述第三气流通道(15)输送第三外界气流且所述第三气流通道(15)与凸起(17)彼此脱离对准关系时获取第一压力值，以及所述监测系统(16)能够在持续向所述第三气流通道(15)输送第三外界气流且所述第三气流通道(15)与凸起(17)相互对准时获取第二压力值，所述第一压力值与所述第二压力值不相同。

8.根据前述权利要求之一所述的制备系统，其特征是，所述监测系统(16)被配置为通过对所述第三气流通道(15)中规定位置处的压力值进行检测以获取所述第一压力值或所述第二压力值，其中，在所述监测系统(16)持续向所述第三气流通道(15)输送第三外界气流且所述研磨辊(9)处于转动状态时，原本对准所述凸起(17)的所述第三气流通道(15)脱离其与所述凸起(17)之间的对准关系，转换至与研磨辊(9)的非凸起区域相对准，在转换过程中所述第三气流通道(15)的出气端口与所述研磨辊(9)表面之间的相对距离增大，促使所述第三气流通道(15)内压力降低而获得所述第一压力值，在所述监测系统(16)持续向所述第三气流通道(15)输送第三外界气流且所述研磨辊(9)处于转动状态时，原本对准研磨辊(9)的非凸起区域的所述第三气流通道(15)脱离其与非凸起区域之间的对准关系，转换至与所述凸起(17)相对准，在转换过程中所述第三气流通道(15)的出气端口与所述研磨辊(9)表面之间的相对距离缩小，促使所述第三气流通道(15)内压力提升而获得所述第二压力值，由此通过监测位于所述设备壳体(11)外部的所述第三气流通道(15)内的气体压力，并将其与所述第一压力值和/或所述第二压力值进行判断，能够获得位于设备壳体(11)内部的研磨辊(9)的至少包括其位置信息的运作状态。

9.根据前述权利要求之一所述的制备系统，其特征是，在规定时间内对所述第三气流通道(15)内规定位置处的气体压力达到所述第二压力值的次数进行监测，该规定位置处的气体压力能够在所述研磨辊(9)转动一周的情况下达到至少两次第二压力值，以使得至少包括所述研磨辊(9)的实时转速、实时转数、实时位置中的一个或几个的监测结果与所述研磨辊(9)的预设转速参数之间具有可比性，从而使得所述监测系统(16)能够以其避免直接置于所述第一细化设备(1)内与所述反应原料相接触的方式为判断在细化过程中研磨辊(9)是否出现扭振提供实时监测数据。

10.一种表面改性的纳米氧化锆陶瓷粉粒的制备方法，其特征是，所述制备方法中至少包括用于细化反应原料的第一细化设备(1)以及用于对反应原料进行改性的改性设备(2)，所述第一细化设备(1)上开设有第一气流通道(3)，其中，所述制备方法至少包括以下步骤中的一个或几个：第一外界气流通过所述第一气流通道(3)能够以捕集位于第一细化设备(1)内的经过至少一次细化后的反应原料的方式，筛分出所述反应原料中的彼此细化程度不同的第一部分原料和第二部分原料，所述第一外界气流继而将所述第一部分原料从所述第一细化设备(1)的第一腔室(4)扩散至所述第一细化设备(1)的第二腔室(5)，所述第一外界气流同时尝试将所述第二部分原料从所述第一腔室(4)朝向靠近所述第二腔室(5)的方向扩散，以此所述第一细化设备(1)能够通过利用所述第一外界气流对彼此细化程度不同的部分原料以不同流动路径的方式同步进行细化处理，以将由所述第二腔室(5)导出的符合粒径筛分条件的反应原料输出至所述改性设备(2)进行改性。